摘要 二手翻新刻蝕機AMATCENTURAEMAXCT+，2007年設備，采用氧化蝕刻工藝，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝加工

摘要 AMAT二手現(xiàn)貨刻蝕機P5000MXP+，1996年設備，可對8英寸晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 AMAT二手現(xiàn)貨PRODUCEREXT電介質(zhì)刻蝕機，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 二手現(xiàn)貨AMAT8300氧化刻蝕機，能夠?qū)Τ叽鐬?英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 AMAT刻蝕機8330，金屬刻蝕系統(tǒng)，能夠?qū)Τ叽鐬?英寸的晶圓進行刻蝕工藝加工處理

摘要 AMAT二手刻蝕機CENTURADPSIIMESA，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 AMAT二手刻蝕機CENTURADPSMETAL，2000年設備，可對尺寸為8英寸的晶圓進行刻蝕加工工藝處理

摘要 AMAT二手現(xiàn)貨刻蝕機CENTURAENABLERE2,2009年設備，可對尺寸為12英寸的晶圓進行刻蝕工藝加工處理

摘要 AMAT二手現(xiàn)貨刻蝕機CENTURAENABLERE5，2010年設備，可以對尺寸為12英寸晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 AMAT二手刻蝕系統(tǒng)P5000MARKII，1995年設備，采用氧化刻蝕工藝，能夠?qū)Τ叽鐬?到8英寸的晶圓進行蝕刻加工處理

摘要 TEGAL二手現(xiàn)貨刻蝕機965，電源功率500W，可對4-6英寸的晶圓進行刻蝕工藝加工處理

摘要 金屬刻蝕機TEGAL6500，ETCHERS/ASHERS，可對尺寸大小為6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 GASONICS/NOVELLUS刻蝕機AURA2000，采用N2H2和O2作為工藝氣體，可對尺寸為8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 GASONICS/NOVELLUS刻蝕機AURA3010，可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 GASONICS/NOVELLUS二手現(xiàn)貨刻蝕機L3200，1993年設備，已拆卸分裝完成，隨時可發(fā)貨

摘要 GASONICS/NOVELLUS二手翻新刻蝕系統(tǒng)L3500，1995年設備，可對尺寸為4-8英寸的晶圓進行蝕刻加工處理

摘要 GASONICS/NOVELLUS二手刻蝕機PEP3510，1997年設備，可對尺寸為8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 GASONICS/NOVELLUS二手刻蝕機PEP4800DLIRIDIA，1998年設備，可對尺寸為8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 HITACHI二手刻蝕機現(xiàn)貨M501AWE，2004年設備，可對尺寸為8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 HITACHI二手現(xiàn)貨刻蝕機M511AE，1995年設備，可以對尺寸為8英寸的晶圓進行氧化刻蝕工藝加工處理

摘要 HITACHI日立二手刻蝕設備M712，可對尺寸為8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 HITACHI二手現(xiàn)貨刻蝕機M712XT，可對尺寸為12應粗的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 日立二手現(xiàn)貨刻蝕機HITACHIM308，金屬刻蝕系統(tǒng)，能對大小為6英寸、8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 hitachi日立二手刻蝕機現(xiàn)貨M-308FX，1996年設備，以鋁為刻蝕材料，采用干法刻蝕工藝，可對6英寸晶圓進行蝕刻加工

摘要 HITACHI二手翻新刻蝕機M-501AW，1996年設備，可對大小為6英寸、8英寸的晶圓進行刻蝕工藝加工

摘要 MARCH二手刻蝕機AP1000，2006年設備，等離子刻蝕系統(tǒng)

摘要 MARCH二手刻蝕機PX-1000，2003年等離子刻蝕設備

摘要 二手現(xiàn)貨刻蝕機MARCHPX-1000E8，2000年設備，可對晶圓進行等離子刻蝕工藝加工

摘要 二手現(xiàn)貨刻蝕機MARCHCS1701，可對尺寸為4/6/8英寸的晶圓進行反應離子刻蝕工藝處理

摘要 二手刻蝕機MARCHPCB1600，2007年設備，等離子刻蝕系統(tǒng)

摘要 二手刻蝕機PLASMATHERM7200，1991年設備，大批量處理晶圓刻蝕工藝

摘要 二手刻蝕機PLASMATHERM770ICP，2001年設備，能對尺寸為8英寸的晶圓進行等離子刻蝕工藝加工處理

摘要 二手翻新刻蝕機PLASMATHERM790，PECVD系統(tǒng)，可對8英寸晶圓進行加工處理

摘要 二手刻蝕機PLASMATHERM790SERIES，1998年設備，反應離子刻蝕RIE系統(tǒng),pecvd系統(tǒng)

摘要 PLASMATHERMSLR770刻蝕機現(xiàn)貨，隨時發(fā)貨，2001年設備，可對2-6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工

摘要 PLASMATHERMSLR770ICP刻蝕機現(xiàn)貨，1998年設備，可對3-6英寸的晶圓進行等離子蝕刻工藝處理

摘要 PLASMATHERMWAFER/BATCH740刻蝕機，1998年設備，可對4英寸晶圓進行可是處理，也可升級處理6英寸晶圓

摘要 PLASMATHERM刻蝕機AMNS-3000E，反應離子刻蝕設備，已打包封裝完成，隨時可以發(fā)貨

摘要 PLASMATHERM刻蝕機BATCHTOPVII，1993年PECVD設備，可處理6英寸晶圓，現(xiàn)貨隨時發(fā)

摘要 PLASMATHERMPK24刻蝕機，等離子刻蝕系統(tǒng)，二手現(xiàn)貨，下單立即發(fā)貨

摘要 PLASMATHERM刻蝕機VLN-VERSALINE，2009年設備，ICP刻蝕系統(tǒng)，現(xiàn)貨供應，隨時發(fā)貨

摘要 PLASMATHERM刻蝕機VERSALINE,ICP-RIE系統(tǒng)，2015年設備，3-8英寸晶圓，隨時發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應PLASMATHERMVERSALOCK700，RIE刻蝕系統(tǒng)，可對8英寸晶圓進行蝕刻處理

摘要 刻蝕機現(xiàn)貨供應MARCHPX-250，等離子刻蝕設備，現(xiàn)貨已打包，隨時可以發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應PSKDAS2000，2004年設備，可對8英寸晶圓進行刻蝕工藝處理