紫外光表面清洗技術在國際上是隨著光電子信息產業(yè)的發(fā)展而提出來的。1簡介七十年代中期美國軍事電子技術和器件實驗室應用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是,美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術主要在軍事領域中進行研究性應用。直到九十年代初,日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電子產品的工業(yè)生產過程,并開始向我國個別外資LCD企業(yè)在要求技術保密的情況下提供UV光清洗機。隨后,日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術的同時,紫外光表面改質技術也得到了發(fā)展。在二十世紀末,日本等*工業(yè)國家紫外光表
查看詳情