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光學膜厚儀的測量原理及結構

來源:北京銘成基業(yè)科技有限公司   2020年09月21日 12:08  

FM100-SE膜厚儀

產品簡介:

膜厚儀主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜樣品進行常規(guī)測量,可得到單層或少數多層薄膜的膜厚,也可得到薄膜的光學參數(如折射率N、消光系數K等);適用于工業(yè)和科研中的常規(guī)測量,可應用于多種薄膜鍍層工藝中,如光學機械拋光、化學氣象沉積、物理氣相沉積、硅片涂膠工藝等。

性能特點:

1.快速測量:僅需1-2秒就可以完成一次測量

2.測量范圍廣:可測量膜厚范圍從15nm-70um

3.簡潔操作:常規(guī)操作,只需點擊一個按鈕就可完成操作

4.高效穩(wěn)定:適用于工業(yè)現場,穩(wěn)定可靠

5.經濟實用:能夠滿足膜厚的常規(guī)測量,成本較低

光學機械組件:

1.光源:寬光譜光源

2.探測器:高靈敏度低噪音陣列式光譜探測器

3.控制箱:含電路板、控制單元、電源、光源

4.輸出設備:軟件界面支持輸出、輸入光譜數據庫

技術參數:

光譜范圍:370-1000nm

光譜分辨率:1.6nm

樣品大?。旱湫途ПP圓尺寸12寸(即直徑30mm)

測量光斑:1.5nm

膜厚測量范圍:15nm-100um

膜厚層數:1-4層

膜厚測量重復性:0.1nm

準確度:2nm

單次測量時間:1-2秒,與測量設置和樣品性質有關

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