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鹽霧試驗箱試驗溶液需用氯化吶和水進行配比,金屬的鹽霧腐蝕屬電化學腐蝕,鹽中雜質(zhì)的多少對鹽霧試驗結(jié)果有很大影響,如:NaI過量時,無形中會增加金屬間的電位差或使金屬形成保護表面,從而影響金屬腐蝕速率;Cu、Ni離子具有加速腐蝕和干擾試驗結(jié)果的作用,尤其是Ni鍍層、Cr鍍層,與實際條件下所得結(jié)果的對比性差,使中性鹽霧試驗的可靠性欠佳,因此必須嚴格控制Cu、Ni雜質(zhì)含量。
德國大眾和法國PSA的控制內(nèi)容大致相當,只是雜質(zhì)的總質(zhì)量分數(shù)有所不同,二者之間的關(guān)系相當于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。
日產(chǎn)標準的內(nèi)容與現(xiàn)行的GB1266-2006《化學試劑 氯化吶》大致相當,但GB1266-2006僅對碘化物有要求,對Cu、Ni則無要求。日產(chǎn)標準對鹽霧試驗箱用水的要求極其嚴格,其用水標準相當于GB/T6682-2008《分析實驗室用水規(guī)格和試驗方法》標準中的二級水。這與日產(chǎn)對NaCl中雜質(zhì)含量的要求較為寬松、需要嚴控水中的電導率有關(guān)。這種苛刻的試驗用水條件將會大大增加使用日產(chǎn)標準的鹽霧試驗成本。
本文出自浙江巨為儀器股份有限公司
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