河南諾巴迪材料科技有限公司
產(chǎn)品型號NBD-T1700-80TIG3Z
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地鄭州市
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更新時間:2024-06-28 17:30:04瀏覽次數(shù):137次
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適用領(lǐng)域 | 其他 |
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應(yīng)用廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料 。
化學氣相沉積(CVD)
1.爐體與控制系統(tǒng)集成一體化,使試驗方便快捷直觀。
2.配置浮子流量計或質(zhì)量流量計混氣氣路,可以單獨設(shè)置氣體流量。
3.精確PID程序多段控制,實現(xiàn)不同工藝多段溫度時間監(jiān)控。
4.爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果好。
5.配備機械泵或分子真空泵,可以實現(xiàn)不同的真空條件。
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