重慶德源勝儀器有限公司
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更新時間:2024-06-17 07:38:34瀏覽次數(shù):139次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)XUV®773X射線熒光測試儀商品介紹FISCHERSCOPEX-RAYXUV儀器配有一個可抽真空的大型測量箱
XUV® 773 X射線熒光測試儀 商品介紹
FISCHERSCOPE X-RAY XUV儀器配有一個可抽真空的大型測量箱。其所裝備的大面積硅漂移探測 器能夠探測低至1 keV的熒光輻射能量,從而能夠有效地測量元素Na、Mg以及元素Zn、Cu、Ni 的L輻射。大孔徑準直器的使用大幅提高了信號計數(shù)率,使儀器可以達到極小的重復精度和極低的測量下限。XUV非常適合測量極薄的鍍層和痕量分析。
采用不同的準直器和基本濾片組合,能夠保證每 一次的測量都在佳的條件下完成。在測量的同時,可以直觀地查看測量點的影像。儀器測量空間寬大,樣品放置便捷,配合可編程的XYZ軸工作臺,既適合測量平面、大型板材類樣品,也適合形狀復雜的樣品。并且使得連續(xù)測量分析鍍層 厚度或元素分析也變得直觀而簡單。儀器配有一個激光定位點作為輔助定位裝置,進一步方便了 樣品的快速定位。
基于儀器的通用設計以及真空測量箱所帶來的擴展的 測量能力,使得FISCHERSCOPE X-RAY XUV不僅可用 于研究和開發(fā),也非常適合過程控制和實驗室使用。
XUV® 773 X射線熒光測試儀 商品特點
帶鈹窗口的微聚焦X射線銠管,可選鎢管和鉬管。高工作條件:50 kV, 50W
X射線探測器采用珀爾帖致冷的硅漂移探測器
準直器:4個,可自動切換,從直徑0.1mm到3mm
基本濾片:6個,可自動切換
可編程XYZ工作臺
攝像頭用來查看基本射線軸向方向的測量位置??潭染€經(jīng)過校準,顯示實際測量點大小。
可在真空,空氣或者氦氣的環(huán)境下工作
XUV® 773 X射線熒光測試儀 商品應用
測量輕元素
測量超薄鍍層和痕量分析
常規(guī)金屬分析鑒定
非破壞式寶石分析
太陽能光伏產(chǎn)業(yè)
XUV® 773 X射線熒光測試儀 實例應用
種類、來源和真實性,是評估寶石價值的本質(zhì)特征;而寶石材質(zhì)的分析結(jié)果則是影響判斷的決定性因素。通常,寶石的主要成份是鋁和硅的氧化物,還會伴隨有鎂和鈉等元素。另外,Cr、Fe、Ga等微量元素也是很重要的。XUV可以分析所有必要元素的光譜圖。
在多個領域的應用中,非常薄的Al鍍層、Si鍍層、氧化鋁鍍層和氧化硅鍍層正在變得原來越重要。在真空環(huán)境中鍍層厚度的測量結(jié)果有顯著的提高。使用XUV來測量這些鍍層,重復精度僅幾個納米。
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