【儀表網(wǎng) 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)】近日，國家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃《光學(xué)和光子學(xué) 微透鏡陣列 第3部分：光學(xué)特性測(cè)試方法》編制完成并征求意見，截止時(shí)間為2023年8月19日。主要起草單位有中科院重慶綠色智能技術(shù)研究院 、中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 、中科院大連化學(xué)物理研究所 、中國兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所 、電子科技大學(xué)等。
ISO14880系列標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的微透鏡陣列產(chǎn)品，指的是由在公共基片的一個(gè)或多個(gè)表面內(nèi)或表面上形成的非常小的透鏡陣列，其主要應(yīng)用于三維顯示器、陣列光輻射源和光電探測(cè)器相關(guān)聯(lián)的耦合光學(xué)器件、用于液晶顯示器的增強(qiáng)型光學(xué)器件及光學(xué)并行處理元器件。
這一部分標(biāo)準(zhǔn)的編制目的是在第一批微透鏡產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)之際，明確微透鏡陣列這一相對(duì)較新領(lǐng)域的術(shù)語。其他三個(gè)部分為：第2部分：波前像差測(cè)試方法；第3部分：除波前像差外的光學(xué)特性測(cè)試方法和第4部分：幾何特性測(cè)試方法。本部分的規(guī)定的微透鏡陣列的光學(xué)特性測(cè)試方法。
微透鏡陣列市場(chǎng)迫切需要就微透鏡陣列本身的光學(xué)特性測(cè)試方法達(dá)成一致。標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于光學(xué)特性的測(cè)試方法不僅有利于促進(jìn)微透鏡陣列產(chǎn)品的研制生產(chǎn)，還有助于科研工作和行業(yè)從業(yè)者在共同理解的基礎(chǔ)上交流概念。
目前，國內(nèi)在微透鏡陣列方面無國家標(biāo)準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)中的微透鏡陣列指的是在同一基片的內(nèi)部或表面微透鏡陣列。
第1-2章分別規(guī)定了本標(biāo)準(zhǔn)的范圍、規(guī)范性引用文件;
第3章術(shù)語中，規(guī)定了微透鏡及微透鏡陣列的術(shù)語。
第4章測(cè)試項(xiàng)目，規(guī)定了微透鏡陣列光學(xué)特性的基板測(cè)試
第5章測(cè)量方法，該章節(jié)的主要內(nèi)容，包括測(cè)量原理、測(cè)量方法選擇、測(cè)量設(shè)備、測(cè)量程序，以及重點(diǎn)測(cè)量參數(shù)(有效前后焦距，色差、焦點(diǎn)均勻性等)
第6章結(jié)果和不確定度，該章節(jié)的主要內(nèi)容，規(guī)定不確定度的評(píng)估方法
第7章耦合效率及成像質(zhì)量，該章節(jié)的主要內(nèi)容，規(guī)定了耦合效率和成像質(zhì)量的測(cè)量方法
第8章測(cè)試報(bào)告，該章節(jié)的主要內(nèi)容，規(guī)定了記錄的內(nèi)容
附錄A表述了使用斐索干涉儀系統(tǒng)的測(cè)量，包括測(cè)試設(shè)備、測(cè)試過程及有效前后焦距的測(cè)量。
附錄B表述了共焦法測(cè)量有效前后焦距方法，包括測(cè)試原理和設(shè)備。附錄C表述了耦合效率和成像質(zhì)量
附錄D表述了微透鏡陣列焦點(diǎn)位置均勻性的測(cè)量方法。
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