氦質(zhì)譜檢漏儀 PECVD 檢漏
上海伯東代理德國 Pfeiffer 多功能多用途氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 成功應用于中科院某研究所 PECVD 檢漏。
PECVD:( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 等離子體增強化學氣相沉積法 )是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種 CVD 稱為等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD)。
PECVD 檢漏原因:PECVD 工作環(huán)境需要兩個必要條件:低溫和真空??梢酝ㄟ^上海伯東德國 Pfeiffer 機械泵 Pfeiffer DUO 20 和分子泵 Hipace 1200 聯(lián)用獲得穩(wěn)定的高真空。由于 PECVD 結(jié)構(gòu)復雜,組成部分較多,各組件通過各種法蘭接口連接,當長時間運行時可能造成接口或管路松動,導致真空度抽不下來,影響沉積薄膜的質(zhì)量,這時就需要通過檢漏來排查漏點。常規(guī)的檢漏如涂肥皂水等方法,耗時耗力且精度低,容易受操作人員干擾,所以利用氦質(zhì)譜檢漏儀的排查方法越來越廣泛使用。
PECVD 檢漏方法:采用檢漏儀的真空法進行檢漏,對懷疑有漏的地方噴氦氣,如果檢漏儀報警,則表明此處有漏!上海伯東客戶中科院某研究所目前現(xiàn)有多臺舊款 Adixen ASM 142 檢漏儀,因為設(shè)備增加,在經(jīng)過工程師*后采購檢漏儀 ASM 340。
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