| CMI760測(cè)厚儀專為滿足印刷電路板行業(yè)銅厚測(cè)量和質(zhì)量控制的需求而設(shè)計(jì)。 CMI760測(cè)厚儀可用于測(cè)量表面銅和穿孔內(nèi)銅厚度。這款高擴(kuò)展性的臺(tái)式測(cè)厚儀系統(tǒng)采用微電阻和電渦流兩種方法來達(dá)到對(duì)表面銅和穿孔內(nèi)銅厚度準(zhǔn)確和精確的測(cè)量。CMI760臺(tái)式測(cè)厚儀具有非常高的多功能性和可擴(kuò)展性，對(duì)多種探頭的兼容使這款測(cè)厚儀滿足了包括表面銅、穿孔內(nèi)銅和微孔內(nèi)銅厚度的測(cè)量、以及孔內(nèi)銅質(zhì)量測(cè)試的多種應(yīng)用需求。 同時(shí)CMI760測(cè)厚儀具有先進(jìn)的統(tǒng)計(jì)功能用于測(cè)試數(shù)據(jù)的整理分析。 CMI760測(cè)厚儀配置包括：
CMI760測(cè)厚儀選配配件：
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| 技術(shù)參數(shù) |
| SRP-4面銅探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù)： 銅厚測(cè)量范圍： 化學(xué)銅：10 μin – 500 μin （0.25 μm – 12.7 μm） 電鍍銅：0.1 mil – 6 mil （2.5 μm – 152 μm） 線形銅可測(cè)試線寬范圍：8 mil – 250 mil （203 μm – 6350 μm） 準(zhǔn)確度：±1% （±0.1 μm）參考標(biāo)準(zhǔn)片 精確度：化學(xué)銅：標(biāo)準(zhǔn)差0.2 %；電鍍銅：標(biāo)準(zhǔn)差0.5 % 分辨率：0.01 mils ≥ 1 mil, 0.001 mils <1 mil, 0.1 μm ≥ 10 μm, 0.01 μm < 10 μm, 0.001 μm < 1 μm ETP孔銅探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù)： 可測(cè)試Z小孔直徑：35 mils （899 μm） 測(cè)量厚度范圍：0.08 – 4.0 mils （2 – 102 μm） 電渦流原理：遵守ASTM-E376-96標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)規(guī)定 準(zhǔn)確度：±0.01 mil （0.25 μm） < 1 mil （25 μm） 精確度：1.2 mil（30μm）時(shí)，達(dá)到1.0% （實(shí)驗(yàn)室情況下） 分辨率：0.01 mils （0.1μm） TRP-M（微孔）探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù)： Z小可測(cè)試孔直徑范圍：10 – 40 mils （254 – 1016 μm） 孔內(nèi)銅厚測(cè)試范圍：0.5-2.5mils（12.7-63.5μm） Z大可測(cè)試板厚：175mil （4445 μm） Z小可測(cè)試板厚：板厚的Z小值必須比所對(duì)應(yīng)測(cè)試線路板的Z小孔孔徑值高3mils（76.2μm） 準(zhǔn)確度（對(duì)比金相檢測(cè)法）：±0.01 mil （0.25 μm） < 1 mil （25 μm） ±10%≥1mil（25 μm） 精確度：不建議對(duì)同一孔進(jìn)行多次測(cè)試 分辨率：0.01 mil（0.1 μm） |
