JF-2型X射線晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源,特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統(tǒng)進行調(diào)流調(diào)壓,從而獲得一個強而穩(wěn)定的射線光源.該機射線發(fā)生器功率大,整機穩(wěn)定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構(gòu)成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.，廣泛用于冶金、機械,電子、化工、地質(zhì)、能源等科研、企業(yè)、大專院校。
該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如：單晶定向、檢驗缺陷、物質(zhì)定性、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力等。
JF-2型X射線晶體分析儀主要參數(shù)：
電 源AC220V 50HZ 30A
功 率2 KW
靶 材Cu（可選其他靶材）
管電壓50 KV（分檔可調(diào)）
管電流50 mA（分檔可調(diào)）
穩(wěn)定度±1%
保 護過功率、過電壓、過電流、無水
冷 卻循環(huán)水、制冷水箱
防 護鉛有機玻璃與金屬結(jié)構(gòu)防護罩
相 機A：德拜相機（粉沫相機）大、小兩種；
B：勞厄相機（平板相機、相機裝底片；暗室洗底片）
上述兩種相機，用戶可自行選配置
