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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

維思特工程技術(shù)（武漢）有限公司是由韓國(guó)維思特科技（WesTech INT）在中國(guó)武漢投資設(shè)立的專業(yè)生產(chǎn)環(huán)境監(jiān)測(cè)設(shè)備(水質(zhì)及大氣)的*，公司成立于2007年，位于武漢東湖*開發(fā)區(qū)內(nèi)。

公司致力于引進(jìn)、消化和吸收韓國(guó)在上述領(lǐng)域的*技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)，研發(fā)生產(chǎn)和銷售在大氣、水體等領(lǐng)域*的環(huán)保設(shè)備，公司產(chǎn)品具有核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)和競(jìng)爭(zhēng)力，為中國(guó)及海外市場(chǎng)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。

公司（Westech）旗下?lián)碛蠾estech、HUMAS兩*，工廠分別位于韓國(guó)首爾和武漢生產(chǎn)基地，生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)室分析儀、便攜式分析儀以及在線分析儀，以及快速便捷的水質(zhì)分析試劑，我們致力于地表水水質(zhì)監(jiān)測(cè)、污染源水質(zhì)監(jiān)測(cè)，工業(yè)過程水水質(zhì)監(jiān)測(cè)，以及高?？蒲械雀鱾€(gè)領(lǐng)域的用戶提供優(yōu)質(zhì)的水質(zhì)監(jiān)測(cè)解決方案。

環(huán)保是當(dāng)今世界的主題，是所有工業(yè)的核心發(fā)展問題。近年來國(guó)家政策的不斷加碼，使得環(huán)保設(shè)備行業(yè)迎來難得發(fā)展契機(jī)，獲得長(zhǎng)足的進(jìn)步，大氣、水、土壤、固廢、環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域的發(fā)展十足可觀，公司產(chǎn)品以高品質(zhì)快捷售后服務(wù)贏得客戶信賴，高錳酸鹽指數(shù)分析儀應(yīng)用于各大國(guó)家水質(zhì)監(jiān)測(cè)站。

價(jià)格信息咨詢請(qǐng)撥：027-87921825 181.5433.8868（張經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

一、主要測(cè)試功能：
1薄膜及波導(dǎo)折射率/厚度/光損測(cè)量
2體材料折射率的測(cè)量
3薄膜及體材料的雙折射測(cè)量
4液體折射率的測(cè)量
5折射率隨溫度變化的測(cè)量分析
6折射率隨深度變化的測(cè)量分析
二、主要應(yīng)用領(lǐng)域：
1光波導(dǎo)器件芯片的制備
2激光晶體的制備
3聚合物材料的屬性研究
4顯示技術(shù)材料的測(cè)量
5光/磁存儲(chǔ)材料的測(cè)量
6光學(xué)薄膜的制備

棱鏡耦合儀產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品名稱：棱鏡耦合儀

產(chǎn)品編號(hào)：Prism Coupler- SPA-4000

產(chǎn)品類別：檢測(cè)儀器

一、主要測(cè)試功能：

1薄膜及波導(dǎo)折射率/厚度/光損測(cè)量

2體材料折射率的測(cè)量

3薄膜及體材料的雙折射測(cè)量

4液體折射率的測(cè)量

5折射率隨溫度變化的測(cè)量分析

6折射率隨深度變化的測(cè)量分析

二、主要應(yīng)用領(lǐng)域：

1光波導(dǎo)器件芯片的制備

2激光晶體的制備

3聚合物材料的屬性研究

4顯示技術(shù)材料的測(cè)量

5光/磁存儲(chǔ)材料的測(cè)量

6光學(xué)薄膜的制備

三、主要測(cè)量參數(shù)：

測(cè)量對(duì)象	具體內(nèi)容
折射率	折射率測(cè)量范圍	1.0 to 2.45
	折射率精度	0.001
	折射率分辨率	±0.0005
厚度	厚度測(cè)量范圍	0.4?-20?
	厚度精確度	±0.5%
	厚度分辨率	±0.01?
體材料（僅測(cè)折射率）	折射率精度	0.0005
體材料（僅測(cè)折射率）	折射率分辨率	±0.0001
厚薄膜	厚度測(cè)量范圍	2?-150?
液體（僅測(cè)折射率）	折射率測(cè)量范圍	1.0 to 2.4
液體（僅測(cè)折射率）	折射率精度	± 0.0005
熱光系數(shù)	溫度測(cè)試范圍	室溫－150℃
波導(dǎo)損耗測(cè)量	測(cè)量限度	below 0.05dB/cm

四、操作波長(zhǎng)：

632.8nm,830nm, 1310nm,1550nm以及根據(jù)客戶要求的其他可見光/近紅外光。用戶zui多可同時(shí)選用兩個(gè)波長(zhǎng)的激光源。

五、可測(cè)試的薄膜材料和稱底材料的類型：

任何光滑的稱底材料均可,并包括：硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍(lán)寶石、鋰酸鈮等。

薄膜類型		稱底類型
Silicon Nitride		Silicon
Silicon Dioxide	Silicon Oxynitride	GaAs
Low-k films	Polymers	Quartz
Polyimides	ITO	Glass
Zinc Sulfide	Titanium Dioxide	Sapphire
Sapphire	Epi Garnet	GGG
Photoresists	Holographic Gels	Lithium Niobate

七、一些材料厚度測(cè)量范圍：

厚度測(cè)量范圍表

薄膜類型和折射率	厚度和折射率一起測(cè)量	僅測(cè)量厚度
硅基上的二氧化硅（n=1.46）	0.48-15mm	0.20-0.48mm
硅基上的光刻膠（n=1.63）	0.42-15mm	0.18-0.42mm
二氧化硅上的光刻膠（n=1.63）	0.70-15mm	0.30-0.70mm
硅基上的聚酰亞胺（n=1.72）	0.38-15mm	0.15-0.38mm
二氧化硅上的聚酰亞胺（n=1.72）	0.50-15mm	0.16-0.50mm
硅基上的氮氧化硅（n=1.80）	0.35-15mm	0.14-0.35mm
二氧化硅上的氮氧化硅（n=1.80）	0.45-15mm	0.13-0.45mm
硅基上的氮化硅（n=2.0）	0.32-15mm	0.12-0.32mm
二氧化硅上的氮化硅（n=2.0）	0.30-15mm	0.15-0.30mm

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
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