Helios 5 PFIB DualBeam
用于 TEM 樣品制備（包括 3D 表征、橫截面成像和微加工）的等離子體聚焦離子束掃描電子顯微鏡。
Thermo Scientific Helios 5 Plasma FIB (PFIB) DualBeam（聚焦離子束掃描電子顯微鏡或 FIB-SEM）是具有的功能，專用于材料科學和半導體應用的顯微鏡。材料科學研究人員可以通過 Helios 5 PFIB DualBeam 實現(xiàn)大體積 3D 表征、無鎵樣品制備和精確的微加工。半導體設備、包裝技術和顯示設備的制造商通過 Helios 5 PFIB DualBeam 可實現(xiàn)無損傷、大面積反處理、快速樣品制備和高保真故障分析。
半導體的主要特點：
半導體設備反處理
Dx 化學處理結合等離子 FIB 束可以為高級邏輯、3D NAND 和 DRAM 提供、位點特定、反處理和故障分析工作流程。
高速大面積橫截面成像
新一代 2.5 μA Xenon PFIB 色譜柱可實現(xiàn)高通量、高品質、統(tǒng)計學相關的 3D 表征、橫截面成像和微加工。
TEM 樣品制備
通過 PFIB 反處理結合 Thermo Scientific 引導工作流程，實現(xiàn)高質量、單層面和橫截面、自上而下和倒置 TEM 樣品制備。
亞納米低能量 SEM 性能
憑借具有高電流 UC+ 單色器技術的 Elstar 電子色譜柱，可以在低能量下實現(xiàn)亞納米性能，從而顯示最細致的細節(jié)信息。
的自動化
執(zhí)行帶端點的自動反處理。SmartAlign 和 FLASH 技術使具有任何經驗水平的用戶在短時間內獲取納米級信息。
完整的樣品信息
可通過多達六個集成在色譜柱內和透鏡下的集成檢測器獲得清晰、精確且無電荷對比度的最完整的樣品信息。
無偽影成像
通過原位自動搖擺拋光和專用成像模式（如 SmartScan 和 DCFI 模式）獲取無偽影成像。
精確的樣品導航
體驗通過靈活的 5 軸電動平臺配置和超高分辨率平臺選項，專為滿足不同應用需求定制的精確樣品導航。
