| 設(shè)備簡介: 流化床化學(xué)氣相沉積(Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FBCVD)技術(shù)的三溫區(qū)立式管式爐。FBCVD技術(shù)是在爐內(nèi)的流化床區(qū)域內(nèi)進(jìn)行,其中固體顆粒在上升的氣體流作用下呈現(xiàn)類似于液體沸騰的狀態(tài),這樣不僅能夠增加物料與反應(yīng)氣體的接觸面積,還能夠促進(jìn)均勻受熱和反應(yīng)物質(zhì)的高效轉(zhuǎn)化,常用于制備薄膜、粉末等各種材料。 此設(shè)備除了具備普通三溫區(qū)管式爐的基本特征外,還針對流態(tài)化反應(yīng)進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計,例如強化氣體流動和分布、確保流化床區(qū)域的穩(wěn)定流態(tài)化狀態(tài)等。在實際應(yīng)用中,它可以用于碳納米管、石墨烯等材料的生長,以及催化劑的制備和改性等領(lǐng)域。 | ||
尺寸圖片200*200 |
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| 圖片200*200 |