產(chǎn)品說明:

等離子清洗系統(tǒng)主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。等離子清洗/刻蝕機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起反應，不同氣體的等離子體具有不同的性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理

等離子技術-盡皆可能，等離子雖然是一門新興學科，但是其在科學研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運用，涉及材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學 生物學等不同領域。等離子應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。這項技術可以應用于多種領域。

等離子技術的優(yōu)勢

相比于其他工藝，如火焰處理或濕法化學處理，等離子技術優(yōu)勢明顯

•提高工藝效率

•杰出的環(huán)保工藝

•被處理的部件不會發(fā)生機械變形

•低溫工藝

•低運營成本

•高工藝可靠性及高操作安全性

•幾乎無須考慮材料的幾何外形

•許多表面性質只能通過此工藝獲得

•通用適用工藝全自動化應用

優(yōu)勢：

一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率

二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性

四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好

五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點

六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝

七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生

八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗

九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的

十．儀器無需進行特殊的日常維護，使用壽命長。