原位激光過程氣體分析儀(單端式)產(chǎn)品介紹
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學(xué)分析儀器,無需采樣預(yù)處理系統(tǒng),能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進行原位氣體濃度測量。
原位激光過程氣體分析儀(單端式)產(chǎn)品特性
采用TDLAS技術(shù),被測氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔,無需對光;直插式設(shè)計,極大簡化了安裝調(diào)試
無需采樣預(yù)處理系統(tǒng),實時快速測量
內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊,動態(tài)補償,實時鎖住吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響
可用于惡劣工業(yè)環(huán)境中,抗化學(xué)腐蝕、高粉塵、高水分
原位激光過程氣體分析儀(單端式)技術(shù)參數(shù)
性能參數(shù) | |
測量組分 | O2、CO2、CO、CH4(可定制) |
測量原理 | TDLAS |
測量范圍 | 0~2%VOL(可定制) |
精度 | ≤±1%F.S. |
重復(fù)性 | ≤±1% |
分辨率 | 0.01%VOL |
響應(yīng)時間 | T90≤4s |
工作參數(shù) | |
環(huán)境溫度 | -20~60℃ |
工作電源 | 24V DC |
吹掃氣源 | 0.3~0.8MPa工業(yè)氮氣 |
接口信號 | |
通訊接口 | RS-485 |
輸出模式 | 4~20mA |