產(chǎn)品介紹: HH-5200型氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)(NH3、NO、O2)基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)和紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預(yù)處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測氣體經(jīng)過高溫采樣探頭除塵除濕、伴熱管高溫傳輸、進(jìn)入高溫氣體分析儀模塊(TDLAS+DOAS)分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路,冷凝水析出溶解NH3導(dǎo)致的測量精度偏度,原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導(dǎo)致無縫測量等技術(shù)難題。
性能特點(diǎn):
1. 避免背景氣體干擾、檢出限低、量程漂移小;
2. 180度以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶和水分吸收;
3. 機(jī)構(gòu)輕巧、便于安裝、維護(hù)成本??;
4. 多參數(shù)集成,測量多種組分。
技術(shù)參數(shù):(數(shù)據(jù)僅供參考,以實(shí)際供貨項(xiàng)目為準(zhǔn))
測量技術(shù) | 可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS);紫外差分吸收光譜(DOAS);氧化鋯 | ||
測量范圍 | NH3:(0~10~1000)ppm; NO :(0~50~1000_ppm;O2:(0~25)% | ||
檢出下限 | 0.1ppm( 10m光程) | 線性誤差 | ≤±1%F.S. |
重復(fù)性 | ≤ 1% | 零點(diǎn)漂移 | ≤±1%F.S. /半年 |
量程漂移 | ≤±1%F.S./半年 | 響應(yīng)時(shí)間 | <90s |
模擬量輸出 | 5路(4-20)mA 輸出 | 模擬量輸入 | 3路(4-20)mA 輸入 |
數(shù)字通訊 | RS485/RS232 | 吹掃氣源 | (0.4 ~ 0.8)MPa凈化儀表空氣 |