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TJQG TJ不銹鋼微距掩膜版濺射掩掩模激光精密切割

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24

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號TJQG
  • 品牌其他品牌
  • 所在地天津市
  • 更新時間2024-01-06
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量90
  • 人氣值143
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華諾激光打標(biāo)雕刻加工中心,有多臺激光打標(biāo)雕刻加工設(shè)備,紅外激光打標(biāo)機、光纖激光打標(biāo)機、半導(dǎo)體激光打標(biāo)機,CO2激光打標(biāo)機、MOPA打標(biāo)機、紫外激光打標(biāo)、高精度首飾激光打標(biāo)、塑膠件激光打標(biāo)、CO2便攜式高可靠性激光打標(biāo)及適用于大型工件的移動式激光打標(biāo)等設(shè)備。滿足不同客戶的激光加工要求。加工由多年激光工藝經(jīng)驗的工藝師專門負責(zé),加工產(chǎn)品*,效率高,及時準(zhǔn)確的按客戶的要求進行加工和設(shè)計。

我們可以在不銹鋼、銅、塑膠、竹木、皮革、石英玻璃、玻璃、紙制品等絕大部分材料上,進行加工刻字、刻圖案、打碼、刻logo等加工工藝。

我們的激光刻字打標(biāo)加工,廣泛應(yīng)用于鋼鐵冶金、有色金屬、汽車及零部件、航天航空、電子、精密儀器儀表、機械制造、模具、五金工具、集成電路﹑半導(dǎo)體制造、太陽能、食品飲料、包裝、鞋材皮革、 塑料橡膠、珠寶首飾、工藝禮品眾多金屬與非金屬領(lǐng)域。

我們的優(yōu)點是做工精美、產(chǎn)品檔次高。加工精度可達到0.01mm,保證同一批次的效果**比傳統(tǒng)電腐蝕、沖壓、絲印、移印精美。沒有絲印、移印的圖案易磨損導(dǎo)致不清晰的缺點。防偽、保存。非接觸式加工,不會造成產(chǎn)品變形??勺詣犹枺哂诃h(huán)保要求。滿足特殊加工需求,可加工內(nèi)表面或傾斜表面。目前高檔產(chǎn)品大部分采用激光標(biāo)記。

我公司專業(yè)激光雕刻加工大幅面、大尺寸的產(chǎn)品,精度高,尺寸準(zhǔn)!專業(yè)鐳射加工各類產(chǎn)品:賀卡,紙卡,彩盒及各種紙品,竹木制品,塑膠,五金,皮革,布等。

禮品激光雕刻加工 可以根據(jù)客戶的要求,采用*的高科技激光雕刻工藝,為企事業(yè)單位或個人定制*的,個性時尚的激光禮品。主要包括:各種企業(yè)禮品,商務(wù)禮品,辦公禮品,廣告禮品,生日禮品,婚慶禮品等。

華諾激光的半導(dǎo)體激光打標(biāo)機光束質(zhì)量高,出光模式好,光功率穩(wěn)定,壽命達20000小時,性能價格比*,耗材成本低,性能穩(wěn)定。半導(dǎo)體激光打標(biāo)采用的技術(shù)配件,速度快,性能穩(wěn)定,以其*的性能和可靠的質(zhì)量贏得了廣大用戶的信賴。

我公司秉承行業(yè)*、專業(yè)追求、誠信經(jīng)營、穩(wěn)健發(fā)展的經(jīng)營理念。樂意挑戰(zhàn)激光加工方面的各種疑難問題,愿與您攜手共進,共創(chuàng)雙贏?。?/span>

公司地址:天津濱海高新區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)(環(huán)外)海泰發(fā)展二路12號3幢一層117室

 

 

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掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
TJ不銹鋼微距掩膜版濺射掩掩模激光精密切割
TJ不銹鋼微距掩膜版濺射掩掩模激光精密切割 產(chǎn)品詳情

TJ不銹鋼微距掩膜版濺射掩掩模激光精密切割微結(jié)構(gòu)加工

掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

掩膜版的應(yīng)用

每個芯片上的實際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。



掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的,因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線,電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。

掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中,掩模版作為一個光學(xué)元件位于會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍(現(xiàn)代光刻機一般都是縮小4倍)后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模(reticle)  。


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