武藏野電子MUSASHINO精密拋光設備MA-150

武藏野電子MUSASHINO精密拋光設備MA-150

精密拋光設備，精密研磨裝置，精密拋光裝置MA-150，MA-200，MA-200e，MA-300e，MA-400e，手動拋光裝置MM-200，自動噴霧裝置MS-2

產(chǎn)品介紹

精密拋光裝置MA-150

其體積小，易于進行精密拋光工作。

可以以更低的成本實現(xiàn)與MA-200e和MA-300e相同的拋光工藝。

特征

可安裝在SEM、EPMA、TEM等旁邊，一機多用。

通過設置定時器并安裝自動磨料噴射裝置MS-2，可以進行自動拋光工作。

非常適合使用小尺寸樣品制備樣品。

MA-150備有各種拋光夾具。

精密拋光裝置MA-200

它是一種易于使用且高精度的拋光設備。適合制備研究和開發(fā)樣品。

特征

MA-200的定時器功能和自動噴涂裝置MS-2使自動拋光工作變得容易。

拋光精度可輕松實現(xiàn)λ/10以下的平面度和0.01μm以下的表面粗糙度。

邊緣無下垂、夾雜物無脫落，非常適合EPMA等評價。

適用于IC截面拋光、傾斜拋光、LN等光學晶體端面拋光。

我們?yōu)?/span>MA-200提供各種拋光夾具和附件。

精密拋光設備MA-200e

非常適合研究和開發(fā)的高精度拋光設備。兼容多種夾具和附件，功能可擴展。

特征

我們反復改進驅(qū)動系統(tǒng)和剛性，以實現(xiàn)減少振動和噪音的拋光工作。

使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。

現(xiàn)在可以使用觸摸屏一次性管理各種拋光工藝的配方。

您可以繼續(xù)使用上一代機器MA-200D的夾具和附件。

可以在短時間內(nèi)對聯(lián)鎖機構、漏電斷路器、緊急停止開關等安全作業(yè)選件進行追加規(guī)格變更。

我們?yōu)?/span>MA-200e提供各種拋光夾具和附件。

精密拋光設備MA-300e

特征

我們反復改進驅(qū)動系統(tǒng)和剛性，以實現(xiàn)減少振動和噪音的拋光工作。

使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。

該裝置非常適合拋光約3英寸或4英寸的大樣品。

自動夾持裝置可安裝在三個位置，使工作更加高效。

配備搖擺裝置，既可保持拋光盤的平整度，又可提高拋光精度。

可以在短時間內(nèi)對聯(lián)鎖機構、漏電斷路器、緊急停止開關等安全作業(yè)選件進行追加規(guī)格變更。

我們?yōu)?/span>MA-300e提供各種拋光夾具和附件。

精密拋光設備MA-400e

精密拋光設備是研究和開發(fā)目的的理想選擇。兼容多種夾具和附件，功能可擴展。

特征

我們反復改進驅(qū)動系統(tǒng)和剛性，以實現(xiàn)減少振動和噪音的拋光工作。

使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。

現(xiàn)在可以使用觸摸屏一次性管理各種拋光工藝的配方。

主軸直接安裝在上平臺上，經(jīng)過高精度磨削，提高磨削精度。

主軸采用高精度角接觸軸承，表面跳動精度在±10μm以內(nèi)。

無刷直流電機不會因負載波動而改變轉(zhuǎn)速，因此可以進行更高精度的拋光工作。

可以在短時間內(nèi)對聯(lián)鎖機構、漏電斷路器、緊急停止開關等安全作業(yè)選件進行追加規(guī)格變更。

通過自動拋光保持裝置和各種樣品支架的組合，可以進行各種精密拋光操作，包括電子材料、電子元件、陶瓷和金屬材料的拋光，TEM、SEM和SIMS分析材料的制備以及定向拋光使用 X 射線。您將能夠工作。

手動拋光裝置MM-200

這是一種專用的手動拋光裝置，可以輕松進行拋光工作。

該拋光盤與精密拋光設備兼容。

特征

當您想要輕松拋光時，這是很好的設備。

可以一邊倒水一邊進行手動拋光作業(yè)。

標配Φ203mm鋁板和固定環(huán)，通過更換耐水砂紙，可以用各種粒度進行拋光作業(yè)。

自動噴霧裝置MS-2

這是一種自動攪拌磨料并定期噴射的裝置。進行自動拋光時，工作效率有望顯著提高。

特征

定期自動噴射金剛石研磨液，實現(xiàn)高效的拋光工作。

通過旋轉(zhuǎn)攪拌器，可以自動攪拌容器內(nèi)的磨料。

也可以噴灑氧化鋁磨料和蒸餾水。

可自由調(diào)節(jié)噴霧間隔和噴霧時間，如每1分鐘噴霧1秒。

一次噴射量約為0.1cc，比手動將金剛石液噴射到拋光盤上更經(jīng)濟。

需要約2個大氣壓的氣源。（可選配壓縮機。）

即使操作多個噴霧裝置，也可以使用一臺壓縮機。

噴嘴有5A、10A、15A三種類型可供選擇。