面源黑體作為紅外源標(biāo)在紅外測(cè)溫、紅外成像、紅外相機(jī)標(biāo)定等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,紅外源標(biāo)紅外輻射性能主要取決于面源黑體溫度場(chǎng)的控制.為了適應(yīng)星載和機(jī)載紅外探測(cè)器大孔徑、大視場(chǎng)角的發(fā)展需求,文中對(duì)超大尺寸面源黑體溫度控制技術(shù)進(jìn)行了研究.外場(chǎng)條件下,面源黑體會(huì)隨著尺寸的增大而增加溫度控制的難度,控溫系統(tǒng)采用兩相流體回路技術(shù)實(shí)現(xiàn)了外場(chǎng)1.2mx1.2m面源黑體不同目標(biāo)溫度下高溫度均勻性、穩(wěn)定性溫度控制,