TJ微孔矩陣掩膜版濺射掩膜板叉指電極掩模版激光加工精密切割
華諾激光承接各種圖案定制,客戶較好能提供包含尺寸的CAD版設(shè)計圖。如果畫圖實在有困難,我們可以根據(jù)客戶描述來繪制,同時我們還能對客戶的掩膜版設(shè)計提供一些建議。
掩膜版的應(yīng)用
每個芯片上的實際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。
掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的,因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線,電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。
1、低開模費,可以按設(shè)計人員的設(shè)計要求進行掩膜圖形任意更改,成本低
2、能實現(xiàn)金屬的半刻,增加公司LOGO,實現(xiàn)品牌化生
3、可達+/-0.0075mm的精度,滿足不同產(chǎn)品的組裝要求
4、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻,無需額外增加成本
5、沒有毛刺,壓點,產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì),不影響產(chǎn)品的功能
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