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濺射鍍膜機(jī) Leica EM ACE600

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時(shí)間2023-07-12
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量209
  • 人氣值252
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濺射鍍膜機(jī)LeicaEMACE600碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴使用EMACE600濺射鍍膜機(jī),充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜
濺射鍍膜機(jī) Leica EM ACE600 產(chǎn)品詳情

濺射鍍膜機(jī) Leica EM ACE600

碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴

使用 EM ACE600 濺射鍍膜機(jī),充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜。 精確的自動(dòng)化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果,提高每次運(yùn)行的樣本產(chǎn)出。


通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個(gè)按鈕即可啟動(dòng)的收料即鍍式自動(dòng)化鍍膜過程,EM ACE600 可以讓您簡(jiǎn)單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時(shí)間。


適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機(jī)裝有可配置式金屬處理室,十分靈活,適合廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。 實(shí)現(xiàn)工作流程目標(biāo),滿足實(shí)驗(yàn)室需求——可在同一個(gè)制備過程中運(yùn)行兩個(gè)不同的濺射源,還可配置 EM ACE600 用于高級(jí)冷凍工作流程。


無論您需要……


●對(duì)扁平或結(jié)構(gòu)化的非導(dǎo)電樣本進(jìn)行高分辨率成像

增強(qiáng)納米級(jí)結(jié)構(gòu)(如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈)的對(duì)比度

生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅(jiān)固的支撐層,或者

為敏感樣本提供保護(hù)層

擴(kuò)展冷凍應(yīng)用中的系統(tǒng)

……使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī),皆可實(shí)現(xiàn)。


通過濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng),每次運(yùn)行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動(dòng)化濺射鍍膜工藝,滿足*鍍膜所需的適當(dāng)條件并實(shí)現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。


可進(jìn)行高達(dá) 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析,具有出色的基礎(chǔ)真空度(<2x10-6 mbar),可為各種不同的濺射靶材仔細(xì)均衡調(diào)整工藝參數(shù)。="">


為進(jìn)一步加強(qiáng)鍍膜效果,可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar,之后再嘗試對(duì)氧敏感的濺射靶材或樣本材料。


不同材料的2納米厚的細(xì)粒度濺射鍍膜,沉積在 SiOx 基材上,200kX 放大倍率。


通過碳鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

EM ACE600 可以通過碳絲鍍膜、碳棒鍍膜或電子束蒸發(fā)生成高品質(zhì)碳膜。


自從徠卡顯微系統(tǒng)開發(fā)出應(yīng)用于 EM ACE600 的自適應(yīng)脈沖方法以來,


碳絲蒸發(fā)已成為一種廣泛使用的方法。 它可生成精確、穩(wěn)定、非晶態(tài)的亞納米級(jí)厚度的薄膜,同時(shí)限度減少對(duì)樣本的熱損傷影響。 無論您需要納米級(jí)厚度、堅(jiān)固且潔凈的透射電鏡支撐層、擴(kuò)散(保護(hù))鍍膜還是大面積均質(zhì)碳層,碳絲都是適合您需求的。


對(duì)于專用應(yīng)用領(lǐng)域,如旋轉(zhuǎn)投影,可以使用電子束蒸發(fā)器。 其小光束發(fā)散功能非常適合投影鍍膜,可增強(qiáng)納米級(jí)結(jié)構(gòu)的邊緣對(duì)比度。


精確碳沉積(1 - 5納米厚碳膜)


按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室,可在不破壞真空的情況下用一臺(tái)鍍膜機(jī)運(yùn)行多個(gè)制程。 同時(shí),將濺射頭與*的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個(gè)濺射源,可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。


●采用經(jīng)過優(yōu)化的帶兩個(gè)斜角端口和一個(gè)旋轉(zhuǎn)臺(tái)的雙源方法,可在整個(gè)100毫米樣本臺(tái)上生成均勻分布的薄膜

有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機(jī)濺射源可供選擇

為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

可隨時(shí)在現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)


適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇: 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)


專注于制備過程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī),只需按下一個(gè)按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡(jiǎn)單可靠的工作流程和便捷的標(biāo)準(zhǔn)操作程序讓您能夠?qū)W⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分。 您可以專注于優(yōu)化工作流程,減少自己學(xué)習(xí)操作方法或培訓(xùn)他人使用方法的時(shí)間。


●通過前門安全裝卸敏感樣本

基于工作流程的用戶界面,可快速訪問相關(guān)參數(shù),全程引導(dǎo)式操作

輕量、穩(wěn)定的濺射源,方便日常操作


EM ACE600 觸摸屏,通過基于工作流程的用戶界面操作


擴(kuò)展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜,提升實(shí)驗(yàn)室電鏡實(shí)驗(yàn)?zāi)芰Α?將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后,通過 EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡,EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)可幫助制備樣本用于研究,如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析。


EM ACE600 提供:


用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺(tái)

基本型斷裂裝置



裝配 EM VCT500 冷凍傳輸系統(tǒng)的 EM ACE600


選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī),滿足實(shí)驗(yàn)室日常工作需求。


有各種樣本支架和樣本臺(tái)可供選擇,例如帶有多達(dá) 3 個(gè)電動(dòng)軸的 3 軸樣本臺(tái)或?qū)S美鋮s臺(tái)。


可快速更換的樣本臺(tái)基片使 EM ACE600 成為多功能工具。


1:電動(dòng) 3 軸樣本臺(tái) | 2:旋轉(zhuǎn)投影(LARS)樣本臺(tái) | 3:旋轉(zhuǎn)“手動(dòng)”樣本臺(tái) | 4:冷凍臺(tái)


超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。 它需要具有導(dǎo)電性,但對(duì)電子束透明,并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)。


采用自適應(yīng)脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜,厚度精確、堅(jiān)固并具有導(dǎo)電性,還可以通過烘焙法進(jìn)一步減少污染。 最終,這類薄膜提供:


●對(duì)電子的高透明度

足以承受電子轟擊的強(qiáng)度

均勻的厚度,這對(duì)于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要


濺射鍍膜機(jī) Leica EM ACE600

A:常規(guī)碳膜(15納米碳);B:超薄碳膜(3納米)。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子

片的晶格。 圖片由比利時(shí) Eva Bladt 和 Sara Bals(EMAT,安特衛(wèi)普大學(xué))采集。

提供方: Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方: Daniel Vanmaekelbergh,

烏特勒支大學(xué)納米材料科學(xué)研究所(Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht)

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級(jí)結(jié)構(gòu)清晰可見

以專用小角度旋轉(zhuǎn)投影(LARS)設(shè)置配置 EM ACE600,可在透射電鏡中對(duì)納米級(jí)結(jié)構(gòu)(如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈)成像。 EM ACE600 電子束源與電動(dòng) LARS 樣本臺(tái)將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺(tái)幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)掠角入射沉積。 用細(xì)粒度鉑層以小角度對(duì) DNA 鏈進(jìn)行投影鍍膜,然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構(gòu),以便在 TEM 中進(jìn)行分析。


出芽酵母(S.cerevisiae,釀酒酵母)的 DNA 復(fù)制分叉的 TEM 圖片,

使用 EM ACE600 電子束鍍膜機(jī)通過小角度旋轉(zhuǎn)投影方法獲得


標(biāo)準(zhǔn)掃描電鏡工作流程

使用標(biāo)準(zhǔn)掃描電鏡工作流程研究化學(xué)固定樣本的表面結(jié)構(gòu)。 使用 EM TP 組織處理機(jī)制備樣本,然后使用 EM CPD300 對(duì)樣本進(jìn)行臨界點(diǎn)干燥。 下一步是使用 EM ACE200 或 EM ACE600 對(duì)樣本鍍膜,然后在掃描電鏡中成像。


1)自動(dòng)組織處理(EM TP) |(2)自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥(EM CPD300) |

(3)碳鍍膜和/或?yàn)R射鍍膜(EM ACE200 / EM ACE600) |(4)在 SEM 中分析圖像


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