XAU-4C(B)光譜分析儀
性能優(yōu)勢(shì):1.微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm²(加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm²)2.變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量。 4.*的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。 5.高性能探測(cè)器:S
- 測(cè)量面積:最小0.03mm²
- 鍍層分析:23層鍍層24種元素
- 儀器特點(diǎn):RoHS有害元素檢測(cè)
- 儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析
- 服務(wù)宗旨:專(zhuān)注研發(fā),專(zhuān)業(yè)生產(chǎn),專(zhuān)精服務(wù)
儀器簡(jiǎn)介:
XAU-4C(B)是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。
應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專(zhuān)用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。
被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
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技術(shù)參數(shù):
1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)
2. 成分檢出限:1ppm
3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)
4. 涂鍍層檢出限:0.005μm
5. 最小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm(最小測(cè)量面積0.03mm²)
標(biāo)配:最小測(cè)量直徑0.3mm(最小測(cè)量面積0.07mm²)
6. 對(duì)焦距離:0-30mm
7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量:45KG
10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm
11. XY軸工作臺(tái)承重:5KG
應(yīng)用領(lǐng)域:
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多元迭代EFP核心算法(號(hào):2017SR567637)
專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
有害元素檢測(cè):RoHS檢測(cè),可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價(jià)鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測(cè)及含量分析
選擇一六儀器的四大理由:
1.一機(jī)多用,無(wú)損檢測(cè)(涂鍍層檢測(cè)-環(huán)保RoHS-成分分析)
2.最小測(cè)量面積0.002mm²
3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件
4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)
配置清單:
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