PI2114 過(guò)氧化氫 (H₂O₂ ) 氣體濃度分析儀

? 持續(xù)測(cè)量亞 ppb 級(jí)的 H2O2 

? 內(nèi)置軟件，以符合 21 CFR Part 11 要求 

? 獲得的光腔衰蕩光譜 ( CRDS ) 技術(shù) 

? 僅需少量維護(hù) ? 無(wú)需采用濕化學(xué)法或耗材

應(yīng)用領(lǐng)域：確保 GMP 制藥生產(chǎn)中過(guò)氧化氫的超低殘留

Picarro PI2114 氣體濃度分析儀可確保超低殘留的過(guò)氧化氫水平，以便在隔離的符合藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范 ( GMP ) 的制藥生產(chǎn)應(yīng)用中助 力避免發(fā)生氧化并確保藥物穩(wěn)定性。高效原料藥  ( API ) 和生物制劑制造以及無(wú)菌灌裝與后續(xù)工藝 需要采用無(wú)菌、隔離的生產(chǎn)環(huán)境。氣化過(guò)氧化氫  ( vHP ) 廣泛用于滅菌和去污。然而，如果在去污 和曝氣后殘留的過(guò)氧化氫水平仍然過(guò)高，則藥物 產(chǎn)品會(huì)發(fā)生氧化和降解。

Picarro PI2114 氣體濃度分析儀能夠以高于  1 ppb 的精度持續(xù)測(cè)量低至 3 ppb 的過(guò)氧化氫  (H₂O₂ ) 水平。該分析儀針對(duì) GMP 應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu) 化。

安裝與操作認(rèn)證快速而便捷，使用市售的替 代氣體即可完成驗(yàn)證。

PI2114 分析儀附裝內(nèi)置軟件，符合美國(guó)食品 和藥物管理局 21 CFR Part 11 條款就臨床和商業(yè) 化制造方面的規(guī)定。

可配置為以數(shù)字格式或通過(guò)可選的模擬輸出 將測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)輸出至 SCADA 控制系統(tǒng)或數(shù)據(jù) 記錄設(shè)備。

PI2114 分析儀操作簡(jiǎn)便，價(jià)格經(jīng)濟(jì)，無(wú)需采 用濕化學(xué)法或耗材。獲得的 Picarro 光腔衰蕩光譜 ( CRDS ) 技術(shù)無(wú)需使用移動(dòng)部件，并且可 融合波長(zhǎng)監(jiān)測(cè)功能。這提供了長(zhǎng)期的穩(wěn)定性與可靠性，以實(shí)現(xiàn)低頻度校準(zhǔn)和維護(hù)的要求

確保超低 H₂O₂ 水平

如圖 1 所示，Picarro PI2114 氣體濃度分析儀具有近五個(gè)數(shù)量級(jí)的線性動(dòng)態(tài)范圍，可以持續(xù)測(cè)量 H₂O₂ 水平。這確保用戶： 

? 測(cè)量低至 3.3 ppb 的 H₂O₂ 水平，以避免氧化， 也有助于維持藥物的效能、安全性和穩(wěn)定性。 

? 從通風(fēng)周期早期開始監(jiān)測(cè)殘留的 H₂O₂ 水平，以確定其何時(shí)可達(dá)到足夠低的水平，從而開始可靠 的生產(chǎn)作業(yè)。 

? 在整個(gè)生產(chǎn)流程中持續(xù)監(jiān)測(cè)殘留的 H₂O₂，以確保其不會(huì)因材料的廢氣釋放而上升至不可接受的 水平。

圖1 在通風(fēng)周期內(nèi)監(jiān)測(cè)殘留 H2O2 水平