本套PECVD系統(tǒng)通過(guò)滑動(dòng)爐體來(lái)實(shí)現(xiàn)快速的升降溫，配置不同的真空系統(tǒng)來(lái)達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過(guò)多路高精度質(zhì)量流量計(jì)控制不同氣體。是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇
產(chǎn)品用途：
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品參數(shù)
- 爐體結(jié)構(gòu)：雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫；
- 爐子底部裝有一對(duì)滑軌，移動(dòng)平穩(wěn)
- 爐子可以手動(dòng)從一端滑向另一端，實(shí)現(xiàn)快速的加熱和冷卻
- 爐蓋可開(kāi)啟，可以實(shí)時(shí)觀察加熱的物料
- 電源電壓：AC220V 50/60Hz；
- 功率：4KW
- 爐管材質(zhì)：高純石英管，高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)極小
- 爐管尺寸：Φ60*1250mm(可定制)
- 加熱系統(tǒng)：加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用
- 加熱區(qū)長(zhǎng)度：400mm(可定制)
- 恒溫區(qū)長(zhǎng)度：200mm(可定制)
- 工作溫度：≤1150℃(可定制)
- 溫度：1200℃(可定制)
- 升溫速率：10℃/min
- 極限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、30段升降溫程序
- 測(cè)溫元件：N型熱電偶
- 恒溫精度：±1℃
- 混氣系統(tǒng)：四路質(zhì)量流量計(jì)：數(shù)字顯示、氣體流量自動(dòng)控制、內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥、管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套、每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥、通過(guò)控制面板上的旋鈕來(lái)調(diào)節(jié)氣體流量
- 流量規(guī)格：0~200sccm
- 流量精度：±1.5%
- 高真空真空系統(tǒng)：采用雙級(jí)旋片真空泵+分子泵，極限真空可達(dá)4.0*10^-4Pa
- 復(fù)合真空計(jì)，配置電阻規(guī)+電離規(guī)
- 抽速：110L/S
- 冷卻：風(fēng)冷
- 射頻電源系統(tǒng)輸出功率:0-300W
- 功率穩(wěn)定度：±0.1%
- 射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%
- 反向功率:120W
- 射頻電源電子輸出端口:UHF
- 冷卻:風(fēng)冷
- 電源:AC187-253V 50/60Hz
- 可選配件：混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計(jì)算機(jī)控制軟件，無(wú)紙記錄儀，氧含量分析儀。
