全套電子自動(dòng)化流量控制（AEFC，Automated Electronic Flow Control）
網(wǎng)絡(luò)化數(shù)據(jù)通訊及遠(yuǎn)程控制系統(tǒng) （LAN communication）
檢測(cè)器設(shè)計(jì) （Advanced detector design）
全部漢化的鍵盤(pán)和軟件操作界面 （Chinese version of keypad and software）
*的電源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的環(huán)境測(cè)試（高溫高濕） （Strict environment test for QA）
精密的程序升溫爐膛溫度控制 (Precise programmable oven temperature control)
獨(dú)立加熱小柱箱 （Separated columns oven)
的分析結(jié)果重復(fù)精度 (High reproducibility of analysis results)
強(qiáng)大的自檢及報(bào)錯(cuò)功能 (Strong function of self-diagnostic)
可實(shí)現(xiàn)序列自動(dòng)運(yùn)行 (Sequence Run Available)
各種閥配置滿(mǎn)足氣體分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微氣路切割技術(shù)實(shí)現(xiàn)多位色譜及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)
柱溫箱
爐膛尺寸:28×30×18 cm
操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃
溫度設(shè)定精度：1℃
程序升溫zui高階數(shù):7階
zui高程序升溫速度: 120℃/min
zui長(zhǎng)一次方法運(yùn)行時(shí)間：999.99min
可運(yùn)行柱流失補(bǔ)償（雙通道）
進(jìn)樣口
雙通道進(jìn)樣口
進(jìn)樣口類(lèi)型可選：
填充柱進(jìn)樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細(xì)管柱）
毛細(xì)管柱分流/不分流進(jìn)樣口）
分流/不分流毛細(xì)管柱進(jìn)樣口
高精度電子壓力/流量控制
zui高使用溫度400°C
柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi
柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
總流量設(shè)定范圍：
0 —1000 mL /min（氦氣）
0 —200mL/min（氮?dú)猓?br>流量設(shè)定精度：0.1 mL /min
zui大分流比：1：1000
氫火焰離子化檢測(cè)器（FID）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450°C
zui小檢出限：<2.5皮克碳/秒
動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍：107（+10%）
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
熱導(dǎo)池檢測(cè)器（TCD）
高精度電子流量/壓力控制、
適配于填充柱和毛細(xì)管柱、
zui高使用溫度300℃、
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100hz、
動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍:105(±10%)、
zui小檢出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦氣）
電子捕獲檢測(cè)器（ECD）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度400 °C
隱性陽(yáng)極（帶吹掃）
檢測(cè)器補(bǔ)償氣類(lèi)型：5%甲烷/氬氣或者氮?dú)?br>數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍：>5X105
zui小檢出限：<0.01mCi 63Ni
氮磷檢測(cè)器（NPD）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450 °C
zui小檢出限：<3皮克 碳/秒
動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍：105N，105P
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
zui小檢測(cè)限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
選擇性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc
