等離子清洗機 樣品活化處理
該清洗機內(nèi)置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實驗 樣品清洗 和教學(xué)。
等離子清洗機 樣品活化處理
該清洗機內(nèi)置高純石英倉體，容積為5升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實驗 樣品清洗 和教學(xué)。
等離子清洗機 樣品活化處理
40KHz和13.56MHz等離子清洗機是兩種工作頻率不同的等離子清洗設(shè)備。它們之間的主要區(qū)別如下：
1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。
2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果，但對于一些微米或亞微米級別的顆粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒尺寸較小的污染物方面具有更高的功效，能夠提供更*的清洗效果。
3. 清洗速度：13.56MHz等離子清洗速度相對更快，因為具有更高的頻率，能更快地傳遞能量，從而更有效地去除表面污垢。
4. 適用范圍：40KHz等離子清洗適用于大部分材料的表面清洗及去除較大顆粒尺寸的污染物，如塑料、金屬、玻璃等材料。13.56MHz等離子清洗則更適用于對微米級污染物及顆粒清洗要求較高的應(yīng)用，如微電子、半導(dǎo)體、光學(xué)等行業(yè)。
5. 成本：由于13.56MHz等離子清洗技術(shù)較復(fù)雜，設(shè)備制造成本相對較高，價格可能會比40KHz的設(shè)備更貴。但根據(jù)不同的實際應(yīng)用需求，適用領(lǐng)域和性能要求可能需要使用較高成本的清洗設(shè)備。
綜上所述，40KHz和13.56MHz等離子清洗機主要區(qū)別在工作頻率、清洗效果、清洗速度、適用范圍及成本等方面，用戶應(yīng)根據(jù)自身的需求和應(yīng)用領(lǐng)域選擇合適的設(shè)備。
等離子清洗機 樣品活化處理
電感耦合和電容耦合是等離子清洗機中兩種不同的能量傳遞方式，它們的主要區(qū)別在于能量傳遞的方式和應(yīng)用場景。
1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：
電感耦合等離子體是通過高頻磁場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中，高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場，高頻磁場切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點是穩(wěn)定性好，能量傳遞高效，適用于高密度等離子體的產(chǎn)生，廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。
2. 電容耦合（Capacitively Coupled Plasma, CCP）：
電容耦合等離子體是通過交變電場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電容耦合的過程中，兩個電極之間施加高頻交變電壓，由于等離子體與電極之間的電容效應(yīng)，導(dǎo)致等離子體內(nèi)部產(chǎn)生高頻電場，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點是結(jié)構(gòu)簡單，能量傳遞相對低效，適用于低密度的等離子體產(chǎn)生，常用于等離子清洗、薄膜沉積等應(yīng)用場景。
總結(jié)：
電感耦合和電容耦合的主要區(qū)別在于能量傳遞的方式，電感耦合通過高頻磁場傳遞能量，適用于高密度等離子體；而電容耦合通過交變電場傳遞能量，適用于低密度等離子體。根據(jù)實際應(yīng)用場景和等離子體要求，可以選擇不同的能量傳遞方式。
