| | 设备简介： 均温氧化扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，可用于2-8英寸工艺尺寸 | ||
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配置详情
| | 设备特点： 1.温场均匀，恒温区长度及精度：300～1250mm 800~1200℃±1℃ 2.具有强大的软件功能，NBD-101EP嵌入式操作系统，用户可以方便地修改工艺控制参数，并可随时显示各种工艺状态；配有故障自诊断软件； 6.可存储多组PID参数供系统运行调用功能，具有多点温度补偿 | ||||||
| 可配工艺管外径 | 炉管外径152mm 适用于3＂；炉管外径252mm 适用于6＂； 炉管外径300mm 适用于8＂ | ||||||
| 温度控制范围 | 300~1150 ℃ | ||||||
| 恒温区长度及精度 | 300～1250mm（依客户要求定） 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ | ||||||
| 可控升降温速率 | 升温速率：≦15℃/min 降温速率≦5℃/min | ||||||
| 加热区个数 | 3区，4区，5区，6区（依客户要求定） | ||||||
| 送料方式 | 手动送料 | ||||||
| 冷却系统 | 水冷2-4Kgf/cm2，8L/min；＋上接排风冷≈25m3/min； | ||||||
| 轴向温场分布 |
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| 径向温场分布 | | ||||||
| 控制系统 | | 1.可预存15条工艺曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦； 2.实验过程更加直观，操作更加便捷； 3.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面，10寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正； 4.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。 | |||||
| 加热腔体 | | 采用优质加热丝：KANTHAL及HRE 绝热材料：晶体纤维等 绝缘子：高纯刚玉，间距依据温场调节 端口过渡环：氧化铝纤维真空成型。 温区：3段、4段、5段、6段
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| 真空密封系统 |
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| 真空度：≤10Pa（机械泵） | |||||||
| 供气系统 | | 采用质子流量计控制气体流速，与设备集成为一体； | |||||
| 可选配项目 | 1. 出料口排毒气柜； 2. 净化出料台； 3. 自动石英浆推拉舟机构 | ||||||
| 设备使用注意事项 | 1. 装取样片必须带石棉手套，使用石英器件小心打碎； 2. 选择合适的石英舟，取出清洁好的石英托板和石英拉钩； 3. 安装样片插入到石英舟的槽内，用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区； 4. 炉管内压力不得超过0.15MPa（压力），以防止压力过大引起危险； 5.高真空下使用时），设备使用温度不得超过1000℃； | ||||||
| 服务支持 | 一年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和密封圈等） | ||||||
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