隨著半導體技術的電子技術工藝的發(fā)展,電子產品都往小型化,輕薄化發(fā)展。iWatch的一經推出,穿戴電子產品成為了一個新的電子設備應用潮流。隨著電子產品的小型化,器件體積越做越小,空間就緊湊起來,這對器件加工尺寸及工藝的容差要求就越來越高。如何管控器件的尺寸及加工工藝對檢測手段提出了新的挑戰(zhàn)。原來很多制程工序只要管控2D的尺寸,現在需要管控3D的尺寸,而且精度要求都在微米級別,這就需要一個高速、高精度的測量手段來管控生產品質。
卓立漢光的3D形貌測試儀應運而生,這款儀器采用非接觸式線光譜共焦快速掃描技術,能夠高精度還原產品的3D結構,對肉眼不可見的結構缺陷都能準確檢測。因為具有較快的掃描速度,微米級別的精度和的穩(wěn)定性,一經推出立馬成為精密生產商的新寵。在精密鑄件、精密點膠、3D玻璃,半導體缺陷檢測和多層光學薄膜厚度檢測,就是這款產品的主要應用領域。
卓立漢光長期專注于光譜技術的應用研發(fā),3D形貌測試儀就是常年實踐積累的成果(號:CN207556477U)。該項技術,具有以下優(yōu)點:
優(yōu)點/ 技術/項目 | 線性共焦光譜技術 | 點測技術 | 激光掃描 | 3D相機 |
速度 | 1000 line/s | 1000 point/s | 1000 line/s | 多角度拍照快 |
掃描寬度 | 6.5mm/20mm | 點 | 可選 | 大 |
分辨率 | 1um | 1um | 30um | 100um |
界面層數 | 多層 | 多層 | 表面 | 表面 |
建模 | 否 | 否 | 否 | 是 |
數據量 | 大 | 大 | 少 | 少 |
3D形貌測試儀主要特點有:
1、非接觸性測量;
2、線掃描,高效率;
3、微米級精度;
4、滿足透明面及高對比度表面測試;
5、支持二次開發(fā);
主要應用
1、精密部件3D尺寸及段差測試;
2、精密點膠膠線截面、膠線寬度、膠線高度測試;
3、3D玻璃缺陷檢測;
4、半導體表面缺陷測試;
5、多層薄膜厚度測試;
磁盤探頭形貌掃描測試
手機邊框段差測試
3D形貌測試儀產品型號及規(guī)格
| HawkEye-1300 | HawkEye-5000 |
方式 | 共焦光譜 | 共焦光譜 |
精度 | 1um | 8um |
重復性 | ±0.3um | ±4um |
線掃寬度 | 6.5mm | 20mm |
Z軸量程范圍 | 1.3mm | 5mm |
掃描速度 | 300line/s(Max:1000line/s) | 300line/s(max:1000line/s) |
重量 | 5Kg | 8Kg |
尺寸 | 460X300X140mm | 460X300X140mm |