熱反射法薄膜導(dǎo)熱儀 NanoTR / PicoTR
測量原理
熱反射（Thermo-Reflectance）方法基于超高速激光閃射系統(tǒng)，可測量基片上金屬、陶瓷、聚合物薄膜的熱物性參數(shù)，如熱擴(kuò)散系數(shù)（Thermal Diffusivity）、熱導(dǎo)率（Thermal Conductivity）、吸熱 系數(shù)（Thermal Effusivity）和界面熱阻。
由于激光閃射時(shí)間僅為納秒（ns）量級，甚至可達(dá)到皮秒（ps）量級，此系統(tǒng)可測量厚度低至10nm的薄膜。同時(shí)，系統(tǒng)提供不同的測量模式，以適應(yīng)于不同的基片情況（透明/不透明）。
該方法符合標(biāo)準(zhǔn)：
JIS R 1689：通過脈沖激光熱反射方法測量精細(xì)陶瓷薄膜的熱擴(kuò)散系數(shù)；
JIS R 1690：陶瓷薄膜和金屬薄膜界面熱阻的測量方法。
NanoTR / PicoTR - 技術(shù)參數(shù)
| 技術(shù)參數(shù) | NanoTR | PicoTR |
| 溫度范圍 | RT，RT … 300°C（選件） | RT，RT … 500°C（選件） |
| 真空度 | N/A | 10-6 mbar（選件） |
| 測量模式 | RF/FF | RF/FF |
| 樣品尺寸 | 10x10 ... 20x20 mm | 10x10 ... 20x20 mm |
| 薄膜厚度 | RF： 金屬：1 ... 20µm 陶瓷：300nm ... 5µm 聚合物：30nm ... 2µm FF：> 1µm | RF： 金屬：100nm ... 900nm 陶瓷：10nm ... 300nm 聚合物：10nm ... 100nm FF：> 100nm |
| 基片厚度 | < 1mm | < 1mm |
| 熱擴(kuò)散溫升時(shí)間 | 10ns ... 10µs | 10ps ... 10ns |
| 熱擴(kuò)散系數(shù) | 0.01…1000 mm2/s | 0.01…1000 mm2/s |
| 測量精度 | 5%(RF), 10%(FF) | 5%(RF), 10%(FF) |
| 操作系統(tǒng) | Windows 7 | Windows 7 |
熱反射法薄膜導(dǎo)熱儀 NanoTR / PicoTR
