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AMC空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)獵戶座3100S

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實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響,對(duì)很多微量污染物極為敏感,比如氨氣或者酸性氣體都會(huì)給半導(dǎo)體生產(chǎn)帶來極大的危害,盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展,已經(jīng)減少了長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),而實(shí)際上空氣分子污染(AMC)的實(shí)時(shí)測(cè)量對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關(guān)重要。
AMC空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)獵戶座3100S 產(chǎn)品詳情

 AMC空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)  獵戶座3100S

 AMC空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)  

獵戶座3100S

概述:

光刻工藝潔凈室內(nèi)痕量級(jí)NH3,HCL,HF等氣體的超高靈敏度、實(shí)時(shí)測(cè)量

實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響,對(duì)很多微量污染物極為敏感,比如氨氣或者酸性氣體都會(huì)給半導(dǎo)體生產(chǎn)帶來極大的危害,盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展,已經(jīng)減少了長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),而實(shí)際上空氣分子污染(AMC)的實(shí)時(shí)測(cè)量對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關(guān)重要。


獵戶座3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)連續(xù)分析儀器,將增加半導(dǎo)體器件阻抗一致性、保證更長(zhǎng)的過濾器壽命、減少生產(chǎn)過程的停工時(shí)間。

        DUKE HMI(人機(jī)交互界面)軟件可以實(shí)時(shí)觀察、實(shí)時(shí)測(cè)量、實(shí)時(shí)操作對(duì)不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進(jìn)行分析,軟件專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā),對(duì)于深紫外光刻工藝過程中監(jiān)測(cè)與控制空氣分子污染(AMC)提供有力的支持,軟件集成了多點(diǎn)采樣(MS)控制功能,具有實(shí)時(shí)顯示數(shù)據(jù)曲線、報(bào)警、存儲(chǔ)、趨勢(shì)、歷史曲線、分析等功能。


獵戶座3100S 系統(tǒng):

完善的空氣分子污染(AMC)監(jiān)測(cè)

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣分子污染(AMC)對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程極為重要??焖俦O(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。

深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸類等濃度測(cè)量,當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng)時(shí),將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測(cè)量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學(xué)熒光法,這些方法分析速度太慢,操作過程太復(fù)雜,昂貴并且測(cè)量結(jié)果不精確。

DUKE采用被證明的CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)解決AMC(空氣分子污染物)監(jiān)測(cè)難題,可快速測(cè)量痕量級(jí)NH3、HCL、HF,采用脈沖熒光法測(cè)量SO2,采用增強(qiáng)型GC-FID測(cè)量VOCs。

獵戶座 3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)測(cè)量痕量級(jí)NH3、HCL、HF并集成了uVOC-CAM特性,是半導(dǎo)體行業(yè)潔凈室AMC(空氣分子污染)測(cè)量的有力工具。

獵戶座 3100S也集成了多點(diǎn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng),可依序?qū)怏w抽送到分析儀或傳感器,并讀出測(cè)量結(jié)果。獵戶座 3100S內(nèi)嵌的報(bào)警、報(bào)告、分析軟件是由多年半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)的工程師集體開發(fā)。

獵戶座 3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模擬模塊可以輸出來自4~6臺(tái)分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。

每臺(tái)分析儀配有內(nèi)置計(jì)算機(jī)(Linux OS),可進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和數(shù)據(jù)輸出,還支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制,通過互聯(lián)網(wǎng)可以連接DUKE公司總部或者當(dāng)?shù)亟?jīng)銷商服務(wù)商,進(jìn)行操作或者診斷

使用者可以通過網(wǎng)絡(luò)瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進(jìn)行操作,遠(yuǎn)程操作可實(shí)現(xiàn)多級(jí)管理權(quán)限控制和操作。

優(yōu)勢(shì):

儀器基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù),極簡(jiǎn)使用、便捷操作,所有部件(包括內(nèi)置真空泵、鍵盤、鼠標(biāo)、顯示器等)幾分鐘內(nèi)可開始記錄數(shù)據(jù),其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷等不會(huì)對(duì)HCL、HF、NH3等測(cè)量構(gòu)成交叉干擾。內(nèi)置計(jì)算機(jī)可以存儲(chǔ)大量數(shù)據(jù)到內(nèi)置硬盤上,可同過數(shù)字接口或者模擬接口傳輸數(shù)據(jù),可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程存儲(chǔ)或記錄數(shù)據(jù),高質(zhì)量的數(shù)據(jù)庫(kù),適合于苛刻的半導(dǎo)體痕量級(jí)氣體應(yīng)用。

原理:

基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)的儀器原理圖,使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測(cè)量,測(cè)量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構(gòu)成,激光束經(jīng)過固態(tài)校準(zhǔn)器(FSR=2.00GHz)時(shí)會(huì)測(cè)量得到相對(duì)激光波長(zhǎng)。為了保證清晰度,忽略了原本照射到左側(cè)測(cè)量單元腔鏡外的光束。

EP增強(qiáng)型版本集成了壓力傳感器和內(nèi)部溫度控制器,具有超穩(wěn)定性測(cè)量腔室,防止溫度漂移、壓力變化等造成的誤差。

CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)相比于代的CRDS(腔衰蕩光譜)技術(shù),有許多已被證明的優(yōu)勢(shì)。簡(jiǎn)而言之,激光束不需要共振耦合進(jìn)入測(cè)量腔室(例如光束不需要嚴(yán)格對(duì)準(zhǔn))。DUKE分析儀器和系統(tǒng)具有安裝簡(jiǎn)單、機(jī)械牢固、防護(hù)結(jié)實(shí)等特點(diǎn)。

特性:

  • sub-ppb級(jí)實(shí)時(shí)測(cè)量

  • CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)原理

  • 苛刻危險(xiǎn)環(huán)境下可連續(xù)無人值守測(cè)量

  • 無試劑、無放射源、無紙帶消耗、無吸收管或者其他耗材

  • 長(zhǎng)期穩(wěn)定性和可靠性

  • 固態(tài)電子器件無可移動(dòng)部件

  • 低維護(hù)量、長(zhǎng)免維護(hù)期

  • 出廠標(biāo)定

  • 單組份/多組份痕量級(jí)氣體測(cè)量

  • 4~64通道多點(diǎn)采樣

  • 獨(dú)立可編程報(bào)警、繼電器設(shè)置

  • 可獨(dú)立編程采樣點(diǎn)順序和吹掃通道

  • 開放的通訊協(xié)議,便于二次開發(fā)與集成

  • 電源斷電或者斷閘,數(shù)據(jù)無丟失

  • 觸摸屏允許數(shù)據(jù)顯示、表格顯示、曲線顯示等

  •  ? ”外徑接口

  • 管線:PFA, PVDF

  • 距離采樣點(diǎn)最長(zhǎng)管線:80m

  • 盤裝彩色液晶顯示器

  • 可遠(yuǎn)程操作或可視化操作

  • 任意的運(yùn)載工具

  • 輸出信號(hào):標(biāo)配 : RS232 , 可選 : 4-20 mA, Modbus 

  • 供電 : 115-230 Vac 50/60 Hz

  • 校準(zhǔn)報(bào)告

  • 通過采樣器或者快速回路泵采樣


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