產(chǎn)品概述
RHCK-TS100激光分析儀采用了可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy，簡稱TDLAS）的原理，可測量過程氣體成分中的特定氣體的濃度，包括CO、CO2、O2、H2S、HCL、HF等。該系統(tǒng)具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式光學測量等特點。
技術(shù)參數(shù)
a.光通道長度：≤20m
b.響應時間：≤1s
c.線性誤差：≤1%FS
d.重復性：≤1%
e.量程漂移：1%FS/光年
f.維護周期：≤2次/年清潔光學窗片
g.標定周期：≤2次/年
h.防爆型式：ExdllCT5
i.防護等級：IP66
j.模擬量輸出：2路4-20mA輸出（隔離、負載750Ω）
k.模擬量輸入：2路4-20mA輸入（溫度、壓力補償）
l.數(shù)字輸出：RS485/RS232/GPRS
m.繼電器輸出:3路輸出（24V，1A）
n.電源：24VDC,10W
o.吹掃氣體：0.3MPa工業(yè)氮氣、凈化儀表空氣等
p.環(huán)境溫度：-30℃～60℃
q.安裝方式：原位式安裝
檢測類型
| 氣體 | 測量下限 | 測量范圍 |
| O2 | 0.01%Vol | 0～1%Vol.,0～100Vol |
| CO | 40ppm | 0～8000ppm，0～99%Vol |
| CO2 | 20ppm | 0～2000ppm，0～99%Vol |
| H2O | 0.01ppm | 0～10ppm，0～99%Vol |
| H2S | 2ppm | 0～20ppm，0～99%Vol |
| HF | 0.01ppm | 0～1ppm，0～50%Vol |
| HCL | 0001ppm | 0～7ppm，0～50%Vol |
| HCN | 0.2ppm | 0～20ppm，0～1%Vol |
| NH3 | 0.1ppm | 0～10ppm，0～99%Vol |
| CH4 | 10ppm | 0～200ppm，0～99%Vol |
| C2H2 | 0.1ppm | 0～10ppm，0～99%Vol |
| C2H4 | 1.0ppm | 0～10ppm,0～99%Vol |
產(chǎn)品特點
a.原位或旁路設計，響應速度快，測量精度高；
b.集成正壓防爆設計，安全可靠；
c.模塊化設計，可現(xiàn)場更換所有功能模塊，維護方便；
d.智能化程度高，操作、維護方便；無需采樣預處理系統(tǒng)，系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單；
e.響應速度快，響應時間不超過1s，保證及時進行工藝控制；
f.無樣氣排放，環(huán)保無污染；
g.直接對過程氣體進行分析，測量準確性高；
應用領(lǐng)域
a.鋼鐵冶金O2、CO等氣體濃度含量檢測；
b.電力、水泥、環(huán)保等行業(yè)CO檢測分析；
c.環(huán)保、化工等行業(yè)的微量HCI和HF分析；
d.煤化工、環(huán)保、醫(yī)療等行業(yè)的CO2檢測分析；
e.FCC煙氣檢測分析；
f.火炬氣分析；
g.乙烯裂解爐燒焦煙氣分析；
h.煉廠酸性氣分析；
i.氯堿行業(yè)微量氣體檢測；
j.合成氨氣體檢測；
