壓力消解罐(水熱合成釜)
DAB-2 | DAB-3
Chemtron消解罐壓力高達(dá)200bar,為難以消解的樣品提供理想的解決方案,可配套的加熱單元,加樣簡(jiǎn)單便捷,實(shí)驗(yàn)重復(fù)性強(qiáng)。
水熱合成實(shí)驗(yàn)
水熱合成法是指溫度為100~1000 ℃、壓力為1MPa~1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學(xué)反應(yīng)所進(jìn)行合成的方法。在亞臨界和超臨界水熱條件下,由于反應(yīng)處于分子水平,反應(yīng)活性提高,因而水熱反應(yīng)可以替代某些高溫固相反應(yīng)。又由于水熱反應(yīng)的均相成核及非均相成核機(jī)理與固相反應(yīng)的擴(kuò)散機(jī)制不同,因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。
水熱合成可分為:水熱氧化,水熱沉淀,水熱合成,水熱還原,水熱分解,水熱結(jié)晶等
安全
壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度PTFE內(nèi)襯,確保實(shí)驗(yàn)操作的可靠性和安全性。
>所有容器均經(jīng)過TUV測(cè)試認(rèn)證
>操作壓力可達(dá)200bar
>溫度可達(dá)250℃,實(shí)驗(yàn)周期可達(dá)數(shù)天
>爆破片保證操作人員的安全
>特殊密封技術(shù)保證易揮發(fā)物質(zhì)不會(huì)流失和擴(kuò)散
>當(dāng)消解罐被打開時(shí),控制壓力將會(huì)釋放
內(nèi)襯技術(shù)
根據(jù)容積不同,TFM-PTFE高密度內(nèi)襯從50ml到250ml范圍可選,安全耐腐蝕,使用壽命長(zhǎng),操作簡(jiǎn)單便捷
可靠的反應(yīng)控制
高精度溫度控制器確保所有參數(shù)統(tǒng)一監(jiān)控,該控制器可以進(jìn)行升溫程序編程。Chemtron消解罐可與實(shí)驗(yàn)室日常工作結(jié)合起來,進(jìn)行隔夜實(shí)驗(yàn)測(cè)試,避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩
加熱
Chemtron針對(duì)不同體積的消解罐,可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置,最多可支持12位消解罐同時(shí)進(jìn)行溫度控制
應(yīng)用
制備超細(xì)顆粒,無機(jī)薄膜,微孔材料,超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解
技術(shù)參數(shù)