由托托科技自主研發(fā)的TTT-07-UV Litho-ACA無掩模板紫外光刻機就采用空間光調(diào)制器的光刻技術,使得其在光學掩模板設計上有著得天獨厚的優(yōu)勢。其分辨率可達1 µm,高性能無鐵芯直線驅(qū)動電機保證了套刻精度和6英寸的圖形拼接。同時,其研發(fā)團隊通過定制化微納結(jié)構(gòu)與器件的低成本、快速達成批量制造,實現(xiàn)規(guī)?;瘧?,助力電子、光學和生物等領域的微納米器件研究與開發(fā)。
主要應用方向包括:微流道芯片,微納結(jié)構(gòu)曝光,電輸運測試/光電測試器件,二維材料的電極搭建,太赫茲/毫米波器件制備,光學掩模板的制作等。
產(chǎn)品特點
自主研發(fā)
高精度五軸位移臺
多精度寫頭自由切換
所見即所得的套刻指引功能
機體內(nèi)除濕功能
全自動光刻控制軟件
矢量圖轉(zhuǎn)像素圖軟件
全畫幅主動對焦功能
曝光圖形自由變換
尺寸測量功能
進程顯示功能
產(chǎn)品選型
實際案例
1.平面光刻
2.灰度光刻
3.3D重構(gòu)光刻