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*GAIA3 GMU Model 2016/GAIA3 超高分辨掃描電鏡-聚焦離子束飛行時間二次離子質(zhì)譜聯(lián)用儀

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號*GAIA3GMUM
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-10-03
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量32
  • 人氣值106
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性能指標(biāo)SEM分辨率:0
超高分辨掃描電鏡-聚焦離子束飛行時間二次離子質(zhì)譜聯(lián)用儀 產(chǎn)品詳情

性能指標(biāo)

  1. SEM分辨率: 0.7nm @ 15kV(COF)、1.0nm @ 15kV 1.0nm @ 1kV(COF)、1.4nm @ 1kV
  2. FIB分辨率:2.5nm @ 30kV
  3. FIB束流:1pA~50nA
  4. 探測器: 樣品室和鏡筒內(nèi)二次電子探測器 樣品室和鏡筒內(nèi)背散射電子探測器
  5. 質(zhì)譜質(zhì)量分辨率:>800
  6. 質(zhì)譜探測極限:3ppm
  7. 質(zhì)譜空間分辨率:40nm(水平方向) 3nm(深度方向)
  8. 附件:能譜儀(EDS)、EBSD 

主要應(yīng)用

  1. 該設(shè)備在雙束電鏡(SEM/FIB)的基礎(chǔ)上配備了EDS和EBSD,同時還集成了一體化的TOF-SIMS。
  2. 該設(shè)備不但能進(jìn)行低電壓超高分辨的電鏡觀察;
  3. 也能利用FIB對試樣進(jìn)行切割、加工、沉積,從事內(nèi)部和截面觀察及特定圖形加工工作。
  4. TOF-SIMS可以進(jìn)行高空間分辨的質(zhì)譜分析,可對包含H、Li等傳統(tǒng)EDS無法分析的全元素以及同位素進(jìn)行分布分析。 

樣品要求

  1. 送檢樣品必須為干燥固體、塊狀、片狀、纖維狀及粉末狀均可。
  2. 應(yīng)有一定的化學(xué)、物理穩(wěn)定性,在真空中及電子束轟擊下不會揮發(fā)或變形;無磁性、放射性和腐蝕性。
  3. 含水分較多的生物軟組織的樣品制備,要求用戶自己進(jìn)行臨界點干燥之前的固定、清洗、脫水及用醋酸(異)戊酯置換等處理,最后由本室進(jìn)行臨界點干燥處理。
  4. 觀察圖像樣品應(yīng)預(yù)先噴金膜。
  5. 一般情況下,樣品盡量小塊些(≤10x10x5mm較方便)。
  6. 粉末樣品每個需1克左右。
  7. 納米樣品一般需超聲波分散,并鍍鉑金膜。 

 

儀器說明

  1. 超高分辨率的電鏡適合多種試樣的極限觀察;
  2. 超高分辨率的FIB可以進(jìn)行精確的試樣加工,尤適合制備定區(qū)域TEM薄片;
  3. TOF-SIMS有著遠(yuǎn)勝于EDS的空間分辨率;
  4. 元素深度剖析有著非常高的Z方向分辨率,非常適合薄膜分析;
  5. 具有ppm級的探測靈敏度;
  6. 可進(jìn)行同位素分析。
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