世偉洛克原子沉積閥
品名：316L VIM-VAR ALD 閥，1/4 in. 內(nèi)螺紋 VCR, SC-01, NO 執(zhí)行器
品牌：世偉洛克
尺寸：1/4 in. 內(nèi)螺紋 VCR, SC-01, NO 執(zhí)行器
材質(zhì)：316不銹鋼
原子層沉積是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。
高性能 ALD 閥是世偉洛克長(zhǎng)期以來(lái)在半導(dǎo)體制造業(yè)中顯示出迅速積極的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)力的一個(gè)重要例子。ALD 閥技術(shù)問(wèn)世以來(lái)，世偉洛克與半導(dǎo)體行業(yè)的客戶密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環(huán)壽命，以跟上市場(chǎng)的快速創(chuàng)新步伐。我們的 ALD 超高純閥具有以下特點(diǎn)：
快速開(kāi)關(guān)下的超高循環(huán)壽命
流量系數(shù)從 0.27 至 1.7
使用耐熱執(zhí)行機(jī)構(gòu)時(shí)，可在 392°F (200°C) 下*浸入
適合于采用標(biāo)準(zhǔn) 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的超高純應(yīng)用
模塊化表面安裝、卡套管對(duì)焊和世偉洛克 VCR® 端接
電子或光學(xué)執(zhí)行機(jī)構(gòu)位置傳感選購(gòu)件
世偉洛克原子沉積閥
