我公司能夠提供下列服務：
電子束曝光：制備光刻膠圖像作為掩膜，最小可以制備線寬為7nm的圖像；
紫外曝光：可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜，最小線條為1um；
牛津深硅刻蝕，深寬比至少可以達到10:1，可以把250um的硅片刻蝕穿透，且側(cè)壁陡直光滑、不長草；
德國 ICP等離子刻蝕，可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料；
測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機（切割硅片、玻璃、藍寶石等）等
歡迎新老客戶聯(lián)系咨詢！
上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司是一家專業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料、光學軟件等產(chǎn)品進口的技術(shù)貿(mào)易服務型公司，公司至今已與歐美、日本等國家的十余家企業(yè)建立了戰(zhàn)略合作關(guān)系；目前服務于國內(nèi)從事微電子、半導體、光學、納米技術(shù)等領域的研究所和大學。主要產(chǎn)品包括：濺射、蒸發(fā)鍍膜儀、離子減薄儀、刻蝕機、等離子處理設備、CVD金剛石沉積設備、激光輔助化學束沉積設備，紅外窗口材料、各種功能CVD金剛石產(chǎn)品，光學設計、激光仿真、BSDF/BRDF測量儀、電磁場模擬仿真及測量儀器等模擬設計軟件等。
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電子束曝光：制備光刻膠圖像作為掩膜，最小可以制備線寬為7nm的圖像；
紫外曝光：可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜，最小線條為1um；
牛津深硅刻蝕，深寬比至少可以達到10:1，可以把250um的硅片刻蝕穿透，且側(cè)壁陡直光滑、不長草；
德國 ICP等離子刻蝕，可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料；
測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機（切割硅片、玻璃、藍寶石等）等
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| 產(chǎn)品名稱 | 參考價 | 地區(qū) | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| Leica EM Res102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 深圳市 | 深圳市新則興科技有限公司 | 2024-06-03 | 在線詢價 |
| 精密離子減薄儀 | 面議 | 上海勞瑞儀器設備有限公司 | 2024-05-21 | 在線詢價 | |
| Leica EM RES102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 圓派科學儀器（上海）有限公司 | 2023-07-26 | 在線詢價 | |
| TEM Mill精密離子減薄儀 | 面議 | 深圳市 | 深圳市順心科技有限公司 | 2023-07-18 | 在線詢價 |
| 離子減薄儀 | 面議 | 北京依維特技術(shù)服務有限公司 | 2023-07-12 | 在線詢價 | |
| Leica EM RES102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 上海鯨藍儀器科技有限公司 | 2023-06-26 | 在線詢價 |
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