產(chǎn)地：美國LT
簡介：
半導體生產(chǎn)依賴于清洗和蝕刻的酸和腐蝕.在這樣高挑戰(zhàn)性的行業(yè)中，減少操作成本是成功的關鍵.IsoChem過程系統(tǒng)可實時連續(xù)監(jiān)測濃度并控制化學品使用量.使用LT-NIR，可提高流程效率、減少成本，進行快速、安全、無損的化學品分析.
延長化學品使用時間
因為IsoChem分析儀集成溶液回收系統(tǒng)，所以大幅提高化學品使用率.IsoChem保證在潮濕化學處理過程中使用的溶液符合要求.監(jiān)測酸浴水平并控制添加的化學品量.通過測量酸濃度和
自動回收溶液來提高溶液回收系統(tǒng)效率.減少化學品使用量，
耐酸腐蝕的測量工具
IsoChem分析儀配有探頭和流量池來處理酸和腐蝕.耐酸Teflon探頭和流量池專為此應用設計.提供各種長度和配置的探頭.LT-NIR技術甚至可用于連續(xù)產(chǎn)生泡沫的反應中.
Z終質(zhì)量測量
LT-NIR也可在Z終產(chǎn)品中測量水分，例如集成電路.和其他IsoChem測量一樣，該分析也是快速、準確、無損的.也可測量太陽能電池的主要NIR屬性，例如玻璃圖層的NIR透光率
測量溶液：
H2SO4 (硫酸)
HF (氫氟酸)
HCl (鹽酸)
HNO3 (硝酸)
CH3COOH (醋酸)
NaOH (氫氧化鈉)
Na2CO3 (碳酸鈉)
NH4OH (氫氧化銨)
SC-1
SC-2
H2O2 (過氧化氫)
TMAH (四甲基氫氧化銨)
水
