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光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-04-04
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量185
  • 人氣值1692
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及國內(nèi)*科學(xué)儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關(guān)消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎(chǔ)和良好的商業(yè)信譽(yù)。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務(wù)等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認(rèn)可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設(shè)備),電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。。
上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設(shè)備),德國普發(fā)真空設(shè)備,電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。
上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為*的真空技術(shù)解決方案的供應(yīng)商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們在分析、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導(dǎo)體和其他工業(yè)領(lǐng)域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務(wù)。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設(shè)有生產(chǎn)制造基地。
隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級,以及對節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強(qiáng)烈需求,對真空技術(shù)的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術(shù)上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標(biāo)志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務(wù)已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀(jì)公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務(wù)工廠。
上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達(dá)科技有限公司一級代理權(quán),科晶為研究新一代可充電電池,超級電容器與快速儲能材料提供完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實驗室用的小型混壓設(shè)備和機(jī)械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關(guān)設(shè)備產(chǎn)品與成套實驗室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設(shè)備:球磨機(jī)、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機(jī)、軋機(jī)、切片機(jī)、封裝機(jī)、電池分析儀等。
上海繪吉電子科技有限公司成功和進(jìn)口公司合作。德國普發(fā)真空設(shè)備,德國布魯克儀器有限公司,*分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進(jìn)口公司

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光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8
光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8 產(chǎn)品詳情

 Leica DCM8將高清共聚焦顯微技術(shù)和干涉測量技術(shù)融合在一起,更添加了豐富的附加功能,使各種 材料表面特性的精確再現(xiàn)變得便利起來。為滿足您的記錄需求,系統(tǒng)的內(nèi)置百萬像素CCD攝像頭 和4個LED光源提供非同凡響的真彩成像功能.

  常規(guī)技術(shù)參數(shù)

1.測量原理:非接觸式3D雙核光學(xué)成像輪廓測定法(共聚焦和干涉測量)。

2.功能:高清成像、高清3D形貌、輪廓、坐標(biāo)、厚度、粗糙度、體積、表面紋理、光譜分析、 色彩分析等。 

3.對比度模式:高清共聚焦、高清干涉測量(PSI、ePSI、VSI)、高清明場彩色、明場、暗場、實時高清RGB 共聚焦。

4.樣品高度 標(biāo)準(zhǔn)型:40 mm;包括可調(diào)立柱:150 mm;根據(jù)要求可提供更高的樣品高度。

5.物鏡 共聚焦、明場和暗場模式下,放大倍率1.25×至150×;干涉測量模式下,放大倍率5×至 50×。

6.物鏡轉(zhuǎn)盤 6位手動式物鏡轉(zhuǎn)盆/6位電動式物鏡轉(zhuǎn)盆。

7.載物臺掃描范圍(x、y、z) 垂直:z = 40 mm;水平:XY = 100x75 mm (標(biāo)準(zhǔn)),或= 300x300 mm ()。 根據(jù)要求,可提供更大的載物臺。

8.垂直掃描范圍 共聚焦40 mm,PSI20 mm,ePSI100 mm,VSI10 mm。 

9.照明 LED光源:紅色(630nm),綠色(530nm),藍(lán)色(460nm)和白色。

10.圖像采集 CCD黑白傳感器:1360x1024像素(全分辨率);黑白35FPS 真彩/共聚焦:3FPS(全分辨率),10FPS(半分辨率),15FPS影像共聚焦。

11.樣品反射率 0.1%-99%。 

12.尺寸和重量 長x寬x高= 573 mm x390 mm x569 mm;重量:48kg 。

13.工作條件 溫度:10°至35°C;相對濕度(RH) < 80%;海拔高度< 2000 m 。

14.隔振 有源或無源 。

15.再現(xiàn)性(50x放大倍率) 共聚焦/VSI:誤差= 0.003 mm (3nm);PSI:誤差= 0.16nm (0.00016 mm)。 

16.精確度(20x放大倍率) 開環(huán):相對誤差< 3%;閉環(huán):誤差< 20nm。

  共聚焦模式 

物鏡放大倍率:1.25× 2.5× 5× 10× 20× 50× 100× 150×

數(shù)值孔徑:0.04 0.07 0.15 0.3 0.5 0.9 0.95 0.95 

視場(μm):14032x 10560 7016x x x 1320 877x660 351x264 175x132 117x88 

光學(xué)分辨率(X/Y): (μm) 3.5 2.0 0.94 0.47 0.28 0.16 0.14 0.14

縱向分辨率(nm): <3000 <350 <150 <30 <15 <5 <2 <2 

典型測量時間: 3-5s

  干涉測量模式 

物鏡放大倍率:5× 10× 20× 50× 

數(shù)值孔徑:0.15 0.30 0.40 0.50

視場(μm):3508xx1320 677x660 351x264 

光學(xué)分辨率(藍(lán)光)(X/Y)(μm):0.94 0.47 0.35 0.28 

光學(xué)分辨率(白光)(X/Y)(μm):1.12 0.56 0.42 0.33 

縱向分辨率(nm) PSI <0.1;ePSI < 1.0;VSI < 3.0 

垂直掃描速度(μm/s) VSI/ePSI:2.4 – 17μm/s 

典型測量時間 PSI:3 – 6sVSI:10s;ePSI:30s

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