| ->->->偏光熔點(diǎn)儀 |
| | |
| XPF400C型偏光熔點(diǎn)儀 | |
一、儀器的主要用途和特點(diǎn)
XPF400C型透射偏光熔點(diǎn)測(cè)定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化 學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。
本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域，適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測(cè)量、結(jié)晶動(dòng)力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。
偏光顯微熔點(diǎn)測(cè)定儀XPF400C系統(tǒng)匯集了光電、模式識(shí)別、精密加工、圖象學(xué)、自動(dòng)控制、模量學(xué)等總多研究領(lǐng)域的當(dāng)前技術(shù)，多年研究開發(fā)的結(jié)果，在國(guó)內(nèi)享有.本儀器的具有可擴(kuò)展性，可以接計(jì)算機(jī)和數(shù)碼相機(jī)。對(duì)圖片進(jìn)行保存、編輯和打印。 | 二、系統(tǒng)數(shù)字性 | | XPF400C型偏光熔點(diǎn)儀系統(tǒng)是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、*的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、的計(jì)算機(jī)成像技術(shù)和精密的溫控技術(shù)地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項(xiàng)高科技產(chǎn)品。可以在計(jì)算機(jī)上很方便地觀察不同溫度下的偏光效果圖像，并對(duì)偏光圖譜進(jìn)行分析,處理,還可輸出或打印偏光圖片。 | | | | |
| 三、儀器的主要技術(shù)指標(biāo) | 1.顯微鏡技術(shù)參數(shù): 名稱 | 規(guī)格 | 總放大倍數(shù)： | 40X---630X | 無應(yīng)力消色差物鏡 | 4X/0.1 | 10X/0.25 | 25X/0.40 | 40X/0.65 彈簧 | 63X/0.85 彈簧 | 目鏡 | 10X 十字目鏡 | 10X 分劃目鏡 | 試片 | 石膏 1λ 試片 | 云母 1/4λ 試片 | 石英楔子試片 | 測(cè)微尺 | 0.01mm | 濾色片 | 藍(lán)色 | 帶座目鏡網(wǎng)絡(luò)尺 | | 移動(dòng)尺 | 移動(dòng)范圍 30mm×40mm | 鏡筒 | 三目觀察 |
2.熔點(diǎn)儀技術(shù)參數(shù):
熱臺(tái)組成 | 性能 | 顯微精密控溫儀 | 在 20倍物鏡下工作溫度可達(dá)到300 ℃ 、溫度運(yùn)行程序全自動(dòng)控制；溫度程序段由用戶自行設(shè)定， 30段溫度編程，循環(huán)操作，能準(zhǔn)確反映設(shè)定溫度、爐芯溫度、樣品的實(shí)際溫度。每段設(shè)定起始溫度，及在該段內(nèi)可維持時(shí)間，升溫速率可調(diào)、精度 ± 0.3 ℃、記憶點(diǎn)讀數(shù) | 顯微加熱平臺(tái) | 可以隨載物臺(tái)移動(dòng)、工作區(qū)加熱面積大、透光區(qū)域可調(diào)、工作區(qū)溫度梯度低于± 0.1
*起始溫度室溫
*工作區(qū)加熱使用面積至少 1X1厘米
*工作區(qū)溫度梯度不超過 ± 0.1
*透光區(qū)域 2mm以上，可調(diào)
*顯示溫度與實(shí)際溫度誤差不超過 ± 0.2
*熱臺(tái)可以隨載物臺(tái)移動(dòng)
在加熱狀態(tài)下可使用 20倍物鏡 | 注意： 熔點(diǎn)測(cè)定（溫度超過100度時(shí)，25X的物鏡工作距離
太近，容易損壞鏡頭，請(qǐng)選用長(zhǎng)工作距離的物鏡25X、40X的物鏡） | | |
| 四、系統(tǒng)組成 |
| 1、偏光顯微鏡 2、適配鏡 3、攝像器(CCD) 4、采集卡 5、計(jì)算機(jī)（選配) |
五、選購件：
1、150萬像素成像器
2、偏光顯微鏡分析軟件
3、100X無應(yīng)力消色差物鏡（帶浸油1瓶） |
| |
