轉(zhuǎn)手二手韓國2050真空鍍膜光學(xué)機(jī)
韓國2050光學(xué)機(jī)配置表
機(jī)械泵 英國愛德華275
羅茨泵 英國愛德華EH2600
擴(kuò)散泵 韓國雙800
膜厚儀 美國英???span>IC-5
電子槍 日本原裝JEOL雙槍(目前單槍)
離子源 韓國霍爾源
深冷 韓國
本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)制作的光學(xué)鍍膜機(jī)。
采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架,保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性
優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時(shí)間縮短
可以加裝用于對應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
產(chǎn)品介紹
韓國2050
· 反應(yīng)性等離子源鍍膜機(jī)
· SDAR 系列
· 器件
· 離子源
· 光學(xué)膜厚監(jiān)控儀
本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)制作的光學(xué)鍍膜機(jī)。
采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架,保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性
優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時(shí)間縮短
可以加裝用于對應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
規(guī)格
真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)
基板架 4片式工作架(或Ф1200 mm)
基板架轉(zhuǎn)速 30rpm(可調(diào))
晶振式膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器
蒸發(fā)源 電子槍1臺(tái)
性能
極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
抽氣速度 10分(大氣壓~3.0×10-3Pa)
基板加熱溫度 350℃
安裝要求
安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
電力 3相,200V,50/60Hz,約80KVA
水流量 100升/分以上
壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa
重量 約5000kg
轉(zhuǎn)手二手韓國2050真空鍍膜光學(xué)機(jī)