ORP-651氧化還原電位儀
使用一個內(nèi)藏的微型計算機(jī)儲存、計算和補(bǔ)償ORP電極的斜率以及零電位偏差、溫度特性等參數(shù);豐富的軟件功能設(shè)計,穩(wěn)定的內(nèi)存和運(yùn)行保護(hù);ORP上限、下限報警雙繼電器控制輸出;具有*的輸入阻抗,適配各種類型的ORP電極;與定量加藥和攪拌裝置配合使用,即可完成液體的氧化還原反應(yīng)的自動控制。
廣泛應(yīng)用于水處理過程中氧化還原反應(yīng)過程的監(jiān)控與調(diào)整,環(huán)保工程和工業(yè)廢水處理過程的連續(xù)監(jiān)控,工廠、學(xué)校理化實(shí)驗(yàn)室及各行業(yè)溶液氧化還原反應(yīng)的分析和控制。
主要技術(shù)指標(biāo):
ORP測量范圍:±1000mV。
分辨率:±1mV。
準(zhǔn)確度:±1mV。
顯示方式:31/2背光型LCD數(shù)字顯示。
輸出信號:非隔離4~20mA電流環(huán)。
電流輸出負(fù)載:*大負(fù)載為300ΩMax@DC24V。
手動溫度補(bǔ)償:0~99℃。
控制輸出方式:ON單觸點(diǎn)繼電器輸出。
繼電器承受負(fù)載:AC 230V/5A Max;AC 115V/10A Max。
配套電極:ORP氧化還原電極。
環(huán)境條件:溫度0~50℃,相對濕度≤85%RH。
供電電源:AC220V±10% 50Hz。
外形尺寸:48×96×100mm(高×寬×深)。
表盤開孔:45×91mm(高×寬)。
安裝方式:盤裝式