MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分光計器用途
MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分光計器用途
MK-300成像光譜儀
采用新設計光學系統(tǒng)的正式聚氯乙烯。
CCD檢測受光面全域空間分辨率優(yōu)異。使用支管光纖等進行多點同時光譜測量,以及通過與顯微鏡連接進行光譜測量等。
衍射光柵最多可以搭載3張,搭載了電氣控制器,可以用USB電纜連接PC,用附帶的專用軟件進行波長驅動和衍射光柵切換。
特點:
將散光減少到極限,大幅改善波長兩端產(chǎn)生的分辨率降低
最多可以安裝3個衍射光柵
多點同時光譜測量
觀測圖像的光譜測量
檢測器的切換類型也有陣容。
規(guī)格:
反線型方差 2.58nm/mm
光學系統(tǒng) 像差校正型特殊光學系統(tǒng)
亮度 F=4.4
波長分辨率 半幅0.2nm(3pixels以內)
迷光 5×10-3以下
波長準確度 ±0.2nm(3pixels以內)
波長再現(xiàn)性 ±0.2nm(3pixels以內)
衍射光柵切換再現(xiàn)性 ±0.2nm(3pixels以內)
光學波長范圍 200~1000nm
波長移動方式 正弦機構、波長線性移動
波長驅動方式 步進馬達驅動(PC?專用軟件控制)
衍射光柵 時刻線有效50×50mm
衍射光柵切換方式 步進馬達驅動(最多可搭載3張)
入射狹縫 寬度:0.01~4mm(雙開對稱連續(xù)可變?讀取最小刻度0.01mm)
手動快門(可選擇自動快門)
軟件 衍射光柵切換·波長移動(USB連接)
*CCD檢測器受光尺寸26.6mm(1024×256pixels 26µm/pixels)的情況
EMDP-100光譜系統(tǒng)
這是一種通過Retroller色散棱鏡和E殼衍射光柵的交叉分散雙光譜配置,能夠以高分辨率同時測量廣波長范圍的系統(tǒng)。搭載ANDOR制ICCD檢測器,可以使用分光儀表專用軟件Blux進行控制。
通過結合各種測量用光學系統(tǒng),可以對應等離子體光譜、PL和LIBS等所有測量。
特點:
一臺E殼光譜系統(tǒng)實現(xiàn)了波長范圍200~900nm的測量。
通過選擇Retroller色散棱鏡,可以從P1(200~270nm)、P2(270~410nm)、P3(410~900nm)3種測量波長范圍中選擇。
測量分辨率在整個區(qū)域8500(λ/△λ)達到以上。
在專用軟件Blux中,可以進行從ICCD檢測器測量的數(shù)據(jù)讀取到光譜顯示的數(shù)據(jù)處理(波長、順序連接、等間隔校正等)。
規(guī)格:
光學布置 交叉色散雙光譜儀
測量波長范圍【3波長范圍】 200~900nm【200~270nm(P1)?270~410nm(P2)?410~900nm(P3)】
測量分辨率 8500以上(狹縫寬度50μm)
半光譜寬度 0.02~0.1nm(200~900nm)
焦距 波長色散用330mm階數(shù)分離用200mm
開口比 F=10
波長色散 埃殼衍射光柵
次方差 利特勒分散棱鏡
入射端口 帶XY調整功能的光纖支架
ICCD元件數(shù) W2048×H512 pixel(有效1800×512pixel)
ICCD元件尺寸 13.5×13.5μm
ICCD區(qū)域大小 W27.648mm×H6.912mm(有效W24.975mm×H6.912mm)
MK-300成像光譜儀
EMDP-100埃殼光譜系統(tǒng)
CLP-400透鏡光譜儀
CLP-50顯微鏡連接用成像光譜儀
CLP-105 UV紫外線成像光譜儀
MCC-135多波長同時測量相機
重氫光源30W
鹵素燈電源
Xseries氙燈光源(通常)
XERseries氙燈光源(反射器)
Nseries陶瓷加熱器光源(紅外光源)