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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

產(chǎn)品描述：反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 在線訂購

反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

RIE，全稱是Reactive Ion Etching，反應(yīng)離子刻蝕，是一種微電子干法腐蝕工藝。
RIE是干蝕刻的一種，這種蝕刻的原理是，當(dāng)在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radio frequency）時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層（ion sheath），在其中放入試樣，離子高速撞擊試樣而完成化學(xué)反應(yīng)蝕刻，此即為RIE（Reactive Ion Etching）。因此為了得到高速而垂直的蝕刻面，經(jīng)加速的多數(shù)離子不能與其他氣體分子等碰撞，而直接向試樣撞擊。為達(dá)到此目的，必須對(duì)真空度，氣體流量，離子加速電壓等進(jìn)行調(diào)整，同時(shí)，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。
我司提供多型號(hào)的RIE刻蝕系統(tǒng)，滿足國內(nèi)客戶研究和生產(chǎn)的需要。

深反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)(Deep Reactive Ion Etching System)
RE系列反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)帶有淋浴頭式樣的氣體分配系統(tǒng)及水冷射頻壓盤，柜體為不銹鋼材質(zhì)。反應(yīng)腔體為13英寸鋁制、從頂端打開方便晶片裝載取出，大可進(jìn)行8英寸直徑樣品實(shí)驗(yàn)，帶有兩個(gè)艙門：一個(gè)艙門帶有2英寸視窗，另一個(gè)艙門用于終點(diǎn)探測及其他診斷。腔體可達(dá)到10-6 Torr壓力或更高，自直流偏置連續(xù)監(jiān)控、大可達(dá)到500伏偏電壓(各向異性蝕刻)。該反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)為*由計(jì)算機(jī)控制的全自動(dòng)設(shè)備。
DRIE系列深反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)帶有低溫晶片冷卻及偏置壓盤，設(shè)備使用2kw 8英寸ICP源，使用500L/秒的渦輪泵，在10-3Torr壓力范圍運(yùn)行。

RIE 設(shè)備參數(shù):
鋁材腔體或不銹鋼腔體；
不銹鋼盒；
可以刻蝕硅化物(~400 ? /min)或金屬；
典型硅刻蝕速率 400 ? /min；
射頻源: 大12”陽極化射頻平板(RF)；
真空度:大約20分鐘內(nèi)達(dá)到1E-6Torr,極限真空5E-7Torr；
雙刻蝕容量：RIE和等離子刻蝕；
氣動(dòng)升降蓋；
手動(dòng)/全自動(dòng)裝卸樣品；
預(yù)抽真空室；
電腦控的高密度等離子源進(jìn)行各向同性蝕刻(isotropic etching)；
2. ICP等離子源，2KW射頻電源及調(diào)諧器；
3. 低溫基底冷卻(Cryogenic substrate cooling)；
4. 終點(diǎn)探測(End point detection) ；
5. 蘭繆爾探針；
6. 靜電卡盤(Electrostatic chuck)；
7. 附加MFC’s；
8. 1KW射頻電流源及調(diào)諧器；
9. 低頻電流源及調(diào)諧器；

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
艾德克斯ITECH 微功耗量測以及材料研究精密源表 IT2805 200V1.5A20W	面議	深圳市	深圳市賽儀歐電子有限公司	2025-03-04	在線詢價(jià)
自動(dòng)測量圖像尺寸設(shè)備	￥560000	深圳市	深圳市中圖儀器股份有限公司	2025-03-09	在線詢價(jià)
羅卓尼克USB接口水活性快速測量探頭	面議	無錫市	無錫徽科特測控技術(shù)有限公司	2025-03-10	在線詢價(jià)
激光功率測量系統(tǒng) LPMS	面議		上海倍藍(lán)光電科技有限公司	2025-03-10	在線詢價(jià)
水分活度測量儀廠商	面議	常州市	常州金壇泰納儀器廠	2025-03-10	在線詢價(jià)
防爆油箱油位測量裝置	面議	無錫市	無錫市興洲儀器儀表有限公司	2025-02-11	在線詢價(jià)

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