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SYDC-300 SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 提拉機 Dip Coater

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  • 型號SYDC-300
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2020-12-25
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量33
  • 人氣值1191
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工欲善其事  必先利其器 

上海三研科技有限公司致力于為納米薄膜材料、納米粉體材料領(lǐng)域的科學(xué)研究及產(chǎn)品生產(chǎn)提供優(yōu)質(zhì)的儀器設(shè)備。

我們的浸漬提拉鍍膜機產(chǎn)品用于溶膠-凝膠法制備納米薄膜材料。不同型號的提拉鍍膜機,可用于從10mm2000mm不同尺寸基片的納米薄膜制備,可控制膜厚從幾十納米至幾百納米,可在恒溫、氣氛(氮氣)條件下鍍膜,可實現(xiàn)全自動多層材料的鍍膜。采用高精度進口零部件,運行穩(wěn)定、精密度高、無振動,鍍膜無條紋,設(shè)備免維護。

我們的高精度程控勻膠機產(chǎn)品采用高速伺服電機,可用于基底的單面旋轉(zhuǎn)涂膜,基底材料可選硅片、玻璃、金屬、塑料等材質(zhì),基底尺寸從Ø10mmØ300mm均可涂膜,全自動程序控制,運行穩(wěn)定。

我們可以提供溶膠-凝膠法制備薄膜材料的技術(shù)咨詢服務(wù),從前驅(qū)物的選擇、溶膠的配置、鍍膜、到熱處理等一系列的工藝過程都是我們熟悉并擅長的。

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SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 提拉機 Dip Coater 是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可*提高實驗精度與實驗效率。
SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 提拉機 Dip Coater 產(chǎn)品詳情


SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 提拉機 Dip Coater


一. 產(chǎn)品應(yīng)用

本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過預(yù)先設(shè)置參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來,在基片上附著一層膜,稱為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經(jīng)過進一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可*提高實驗精度與實驗效率。

適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面鍍膜。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

二. 產(chǎn)品特點

1. 采用伺服電機驅(qū)動,配合德國*的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機運轉(zhuǎn)時的高精度、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。

2. *新升級為德國*的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。

3. 采用箱體式設(shè)計,鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi),避免外界環(huán)境的干擾;前門及側(cè)面采用透明玻璃,便于觀察鍍膜過程;

4. 多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。

5. 可全自動運行鍍膜,也可進入手動操作模式鍍膜;

6. 7英寸觸摸屏控制。運行時,各項參數(shù)實時顯示,更直觀了解鍍膜進程;

7. 高、低速均運行平穩(wěn),工作時液面無振動,使成膜更均勻;

8. 標(biāo)配3個夾具夾持基片,更牢固更穩(wěn)定。夾具夾口兩面都有一層橡膠墊,不會夾壞基片。

三. 技術(shù)參數(shù)

1. 提拉速度范圍:110000 μm/s,*小分辨率1 μm/s;

2. 速度精度:-0.01%+0.01%

3. *大行程:約370 mm(以實際為準(zhǔn));

4. 適用基片尺寸:MIN 10×10 mm,MAX 300×300 mm,厚度 MAX 10mm;

5. 浸漬時間:13600 s,*小分辨率1s;

6. 循環(huán)鍍膜次數(shù):11000次,*少1次;

7. 循環(huán)間隔時間:13600 s,*小分辨率1s;

8. 電源:220V/50Hz



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