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Nanotrac wave II 納米粒度及zeta電位儀-蒸發(fā)器

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號NanotracwaveII
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2020-09-07
  • 廠商性質(zhì)
  • 所在地區(qū)
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量120
  • 人氣值1650
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美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商,其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,等領(lǐng)域,并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新,近半個世紀以來,一直著激光粒度分析的前沿技術(shù),可靠的產(chǎn)品和強大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù),使得其不斷超越自我,推陳出新,。Microtrac在在線顆粒大小和形狀測量方面有超過25年經(jīng)驗,了解過程加工環(huán)境的所有需求,在線測量的好處就是讓操作者能實時的看到過程的變化,使他們立即作出反應(yīng),得到高質(zhì)量的產(chǎn)品。 [展開更多]
納米粒度及zeta電位儀-蒸發(fā)器 產(chǎn)品詳情

公司介紹:

美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商,其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,等領(lǐng)域,并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新,近半個世紀以來,一直著激光粒度分析的前沿技術(shù),可靠的產(chǎn)品和強大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù),使得其不斷超越自我,推陳出新,。

Microtrac在在線顆粒大小和形狀測量方面有超過25年經(jīng)驗,了解過程加工環(huán)境的所有需求,在線測量的好處就是讓操作者能實時的看到過程的變化,使他們立即作出反應(yīng),得到高質(zhì)量的產(chǎn)品。


儀器簡介:

納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)

隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術(shù),結(jié)合動態(tài)光散射理論和*的數(shù)學處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達百分之四十,基本實現(xiàn)樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù),信號強度高出幾個數(shù)量級。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實現(xiàn)了對樣品的直接測量,*的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。


Zeta電位測量:

美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨到見解,經(jīng)過多年的市場調(diào)研和潛心研究,開發(fā)出一代Nanotrac wave II微電場分析技術(shù),融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,Nanotrac wave II采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計,配置膜電極產(chǎn)生微電場,操作簡單,測量迅速,無需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,無需外加大功率電場,無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池,*消除由于空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,結(jié)果準確可靠,重現(xiàn)性好。


測量原理:

粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理

Zeta電位測量:膜電極設(shè)計與“Y”型探頭形成微電場測量電泳遷移率

分子量測量:水力直徑或德拜曲線


光學系統(tǒng):

3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路


軟件系統(tǒng):

*的Microtrac FLEX軟件提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和*等。


外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

環(huán)境要求:溫度,10-35°C

標準:符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008


主要特點:

? 采用的動態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法

? 的“Y”型光纖光路系統(tǒng),通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應(yīng)產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。

? 的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性。

? 的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。

? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。

? 的快速傅利葉變換算法(FFT,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。

? 膜電極設(shè)計,避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準確測量顆粒電泳速度。

? 無需比色皿,毛細管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果

? 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

熱門產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱參考價地區(qū)公司名稱更新時間 
旋轉(zhuǎn)式蒸發(fā)器 ¥1100 青島市 青島聚創(chuàng)環(huán)保集團有限公司 2025-03-10 在線詢價
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