7700系列ICP-MS不但配置了新的軟件平臺，而且在儀器硬件方面也進(jìn)行了革新設(shè)計，包括全新數(shù)字控制式射頻匹配的RF發(fā)生器和第三代八極桿碰撞/反應(yīng)池系統(tǒng)(ORS3)。安捷倫7700x ICP-MS 憑借第三代碰撞/ 反應(yīng)池(ORS3) 為復(fù)雜高基體樣品的分析提供了*的準(zhǔn)確性，重新定義了碰撞/反應(yīng)池：僅使用氦氣碰撞即可消除所有可能的質(zhì)譜干擾！

技術(shù)參數(shù)：

1.靈敏度：

低質(zhì)量數(shù) Li(7): 50 Mcps/ppm；

中質(zhì)量數(shù) Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；

(高質(zhì)量數(shù) Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；

根據(jù)用戶特殊需求，如激光、核工業(yè)、半導(dǎo)體材料等應(yīng)用，可提供超高靈敏度功能

2.檢測限：

低質(zhì)量數(shù) Be(9): 0.5 ppt；

中質(zhì)量數(shù) In(115): 0.1 ppt

高質(zhì)量數(shù) Bi(209): 0.1 ppt

3.氧化物干擾: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；

4.雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:3.0 %

5.同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

6.質(zhì)譜范圍：2 – 260 amu；

7.豐度靈敏度

低質(zhì)量端: 5 x 10-7

高質(zhì)量端: 1 x 10-7

主要特點：

尺寸*小的ICP-MS

靈敏度*高的碰撞池-第三代ORS3

*的純 He 氣碰撞池：只用He氣就可以消除所有干擾。

*耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(shù)（TDS>3%）

*的ICP離子源技術(shù)：*的數(shù)字控制式諧頻ICP發(fā)生器

有機(jī)溶劑進(jìn)樣不熄火！

分析速度*快：ISIS-DS技術(shù)

*容易維護(hù)和清洗

*強(qiáng)的色譜聯(lián)機(jī)功能：真正的一體化

功能*多*強(qiáng)的軟件：MassHunter系統(tǒng)，實現(xiàn)實時QA/QC

偏移標(biāo)示，自動化控制等