多尺度原位二維微納米變形測(cè)量?jī)x是一種非接觸二維變形光學(xué)測(cè)量系統(tǒng),該系統(tǒng)主要用測(cè)量材料表面的二維全場(chǎng)變形分布。二維多尺度數(shù)字散斑測(cè)量?jī)x
主要技術(shù)指標(biāo):二維多尺度數(shù)字散斑測(cè)量?jī)x
1.有效測(cè)量范圍:1.1*1.1mm2至40*40mm2四檔可調(diào);
2.工作距離:65mm~100mm
3.應(yīng)變分辨率:1000微應(yīng)變,可達(dá)100微應(yīng)變
4.圖像識(shí)別分辨率:0.02像素
5.S相機(jī):3840*2748 USB2.0數(shù)字?jǐn)z像頭
6.照明系統(tǒng):LED照明
其他技術(shù)性能:
1.在40mm視場(chǎng)下觀測(cè)樣品表面,對(duì)感興趣的區(qū)域,可準(zhǔn)確移動(dòng)改變所需的放大倍數(shù)觀測(cè)該區(qū)域,并可進(jìn)行人工鼠標(biāo)輔助跟蹤;
2.確保動(dòng)態(tài)攝像與載荷輸出同步采集;
3.圖像采集分辨率:大于或等于3幀/秒。
4.三維電動(dòng)移動(dòng)臺(tái)的移動(dòng)范圍:100mm(X,Y),50mm(Z)移動(dòng)精度:0.01mm
近年來公司加快了新產(chǎn)品研制的步伐,僅光彈儀就形成了4種不同規(guī)格近10個(gè)型號(hào)系列,滿足了高效的各種不同的需求。此外公司的主要產(chǎn)品也從光測(cè)力學(xué)實(shí)驗(yàn)室演示向應(yīng)用方向推進(jìn)。2014年公司為國(guó)家某光機(jī)所定制的一維離面位移相移電子散斑干涉儀已投入其新型復(fù)合材料研發(fā)的變形測(cè)量。多尺度二維數(shù)字散斑相關(guān)測(cè)量系統(tǒng)應(yīng)用于某高校試驗(yàn)機(jī)試件的拉伸變形研究。2014年公司正式成為山東科技大學(xué)碩士研究生光電實(shí)習(xí)基地。