一、設(shè)備：羧基化高純單壁碳納米管水分散液混合均質(zhì)機(jī),單壁碳納米管研磨均質(zhì)機(jī),碳納米管漿料均質(zhì)機(jī),碳納米管均質(zhì)機(jī),工業(yè)級(jí)多壁碳納米管漿料均質(zhì)機(jī)廠家
羧基化高純單壁碳納米管分散液所用原料為：XFS04羧基化高純碳納米管
碳管含量: 10.0wt‰.
組成：羧基化高純碳納米管、去離子水、非離子表面活性劑。
二、碳納米管分散技術(shù)三要素：
碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
（2）碳納米管分散技術(shù)，針對(duì)中、低粘度分散介質(zhì)。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。
（2）分散劑的用量，與碳納米管比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS。
3、分散設(shè)備
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制。
（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。
（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管分散劑用量推薦。
三、羧基化高純單壁碳納米管溶液分散難點(diǎn)：
碳納米管分散，其實(shí)也就是所謂的納米級(jí)物料的分散，在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
四、羧基化高純碳納米管水分散液混合均質(zhì)機(jī)特點(diǎn)：
1、ZKE研磨均質(zhì)機(jī)的結(jié)構(gòu)為：*級(jí)為膠體磨頭定轉(zhuǎn)子，第二級(jí)為分散盤定轉(zhuǎn)子；有利于碳納米管漿料的分散，先研磨后分散，避免物料的團(tuán)聚。
2、ZKE研磨均質(zhì)機(jī)轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，定轉(zhuǎn)子間隙為0.2-0.3mm，屬于超精細(xì)分散，高速剪切速率，分散后的碳納米管漿料更加均勻穩(wěn)定。
3、ZKE研磨均質(zhì)機(jī)應(yīng)對(duì)碳納米管漿料，機(jī)械密封采用合金環(huán)，設(shè)備所有密封圈采用全氟橡膠；另外ZKE研磨均質(zhì)機(jī)更模塊都帶有夾套可進(jìn)行溫度控制，便于各種工藝的要求。
五、羧基化高純單壁碳納米管水分散液混合均質(zhì)機(jī)核心參數(shù)：
1、主軸轉(zhuǎn)速：0-14000rpm；
2、處理量：0-10000L/H
3、電機(jī)功率：4kw、11kw、22kw；
4、定轉(zhuǎn)子材質(zhì)：316L；
5、定轉(zhuǎn)子間隙：0.2-0.3mm；
