NPC-4000微波等離子清洗機(jī)概述:
NANO-MASTER 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
NPC-4000微波等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):
- 緊湊型立式系統(tǒng)
- 自動(dòng)上下載片
- 帶Load Lock
- 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 兼容100級(jí)超凈間使用
- 淋浴頭、ICP或微波等離子源
- 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
- RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺(tái)
- 全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧
- zui多可支持8個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路
- PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥
- 帶密碼保護(hù)的多級(jí)訪(fǎng)問(wèn)控制
- 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
- 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
- 250 l/s的渦輪分子泵
- 極限真空為5x10-7Torr
- 完整的安全聯(lián)鎖
NPC-4000應(yīng)用:
- 有機(jī)物以及無(wú)機(jī)物的殘留物去除
- 光刻膠剝離或灰化
- 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
- 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線(xiàn)框架
- 提高黏附性,消除鍵合問(wèn)題
- 塑料的表面改型:O2處理以改進(jìn)涂覆性能
- 產(chǎn)生親水或疏水表面