產(chǎn)品介紹真空等離子清洗機(jī)TS-PL200MA
名稱 | 真空等離子清洗機(jī) |
型號(hào) | TS-PL200MA |
外形尺寸(W×H×D) | 1300mm×930mm×1900mm |
反應(yīng)腔尺寸(W×H×D) | 500×700×580mm |
真空腔體材料 | 進(jìn)口316不銹鋼 |
真空泵 | 進(jìn)口品牌 4L/S |
角閥 | 北儀 超真空40KF |
流量控制器及顯示儀 | sevenstar 0-800ml/min |
真空顯示規(guī)管及讀取器 | Pirani |
射頻電源 | 13.56MHZ |
PLC系統(tǒng) | 三菱(包括PLC,A/D模組兩組,D/A模塊兩組,溫度模塊) |
電氣系統(tǒng) | 施耐德 |
變頻器 | 西門子 |
觸摸屏 | 10.7寸 |
陶瓷封裝 | 進(jìn)口高頻陶瓷 |
處理氣體 | O2、Ar2、N2,H2、CF4 |
真空等離子清洗機(jī)清洗特點(diǎn):
與濕法清洗相比,等離子清洗的優(yōu)勢表面在以下幾個(gè)方面:真空等離子清洗機(jī)TS-PL200MA
(1 )在經(jīng)過等離子清洗之后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
(2 )不使用三氯乙甲 ODS 有害溶劑,清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。
(3)它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),所不多考慮被清洗物體形狀的影響。
(4 )整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成,因此具有效率高的特點(diǎn)。
(5 )等離子清洗的大技術(shù)特點(diǎn)是,它不分處理對(duì)象,可處理不同的基材。無論是金屬、半 導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯 乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚脂、環(huán)氧樹 脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理。因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。
(6 )在完成清洗去污的同時(shí),還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等。
(7)自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
等離子體清洗的機(jī)理:
1、什么是等離子體
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在,如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài),又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。
等離子體中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
2、等離子體清洗的機(jī)理
由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。
就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
3、反應(yīng)類型分類
等離子體與固體表面發(fā)生反應(yīng)可以分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化學(xué)反應(yīng)。
物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面終被真空泵吸走;化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。
以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性;缺點(diǎn)就是對(duì)表面產(chǎn)生了很大的損害,會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng),對(duì)被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差,腐蝕速度較低。
以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度較高、選擇性好、對(duì)清除有機(jī)污染物比較有效,缺點(diǎn)是會(huì)在表面產(chǎn)生氧化物。和物理反應(yīng)相比較,化學(xué)反應(yīng)的缺點(diǎn)不易克服。
并且兩種反應(yīng)機(jī)制對(duì)表面微觀形貌造成的影響有顯著不同,物理反應(yīng)能夠使表面在分子級(jí)范圍內(nèi)變得更加“粗糙”,從而改變表面的粘接特性。
還有一種等離子體清洗是表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用,即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕,兩種清洗可以互相促進(jìn),離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài),容易吸收反應(yīng)劑,離子碰撞使被清洗物加熱,使之更容易產(chǎn)生反應(yīng);其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性,又有較好的方向性。
典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑,容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,從而去除表面的污染物。
真空等離子清洗機(jī)工作原理:
真空等離子清洗機(jī)包括一個(gè)反應(yīng)腔室、電源和真空泵組。樣品放置反應(yīng)腔室內(nèi),真空泵開始抽氣至一定的真空度,電源啟動(dòng)便產(chǎn)生等離子體,然后氣體通入到反應(yīng)腔室,使腔室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體,這些等離子體與樣品表面發(fā)生反應(yīng),生產(chǎn)可揮發(fā)的副產(chǎn)物,并由真空泵抽出。利用等離子高能粒子與材料表面發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng), 可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面進(jìn)行激活、蝕刻、除污等工藝處理, 以及對(duì)材料的摩擦因數(shù)、粘合和親水等各種表面性能進(jìn)行改良的目的。
等離子清洗機(jī)示意圖
1)對(duì)材料表面的刻蝕作用–物理作用
等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。
2)激活鍵能,交聯(lián)作用
等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu),大大地激活了表面活性。
3)形成新的官能團(tuán)–化學(xué)作用
如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體,那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),引入新的官能團(tuán),如烴基、氨基、羧基等,這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán),能明顯提高材料表面活性。
等離子清洗是利用等離子體內(nèi)的各種具有高能量的物質(zhì)的活化作用, 將附著在物體表面的污垢*剝離去除。下面以氧氣等離子體去除物體表面油脂污垢為例, 說明這些作用。等離子體對(duì)油脂污垢的作用, 類似于使油脂污垢發(fā)生燃燒反應(yīng);但不同之處是其在低溫情況下發(fā)生的“燃燒”。其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下, 油脂分子終被氧化成水和二氧化碳分子, 并從物體表面被清除。
等離子處理前后對(duì)比:
液體在固體材料表面上的接觸角, 是衡量該液體對(duì)材料表面潤濕性能的重要參數(shù),若θ<90°,則固體表面是親水性的,其角越小,表示潤濕性越好;若θ>90°,則固體表面是疏水性的。
達(dá)因值的測量在印刷、涂層、覆膜、焊接等應(yīng)用非常常見,可反映出材料表面容不容易結(jié)合,一般而言,達(dá)因值越大,表面與另一種材料的結(jié)合性能越佳。
等離子清洗機(jī)應(yīng)用范圍:
等離子清洗機(jī)通常被用在:1.等離子表面活化/清洗;2.等離子處理后粘合;3. 等離子蝕刻/活化; 4. 等離子去膠; 5. 等離子涂鍍(親水,疏水); 6. 增強(qiáng)綁定性;7.等離子涂覆; 8.等離子灰化和表面改性等場合。
通過其處理,能夠改善材料表面的浸潤能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
等離子清洗機(jī)目前廣泛應(yīng)用在電子,通信,汽車,紡織,生物醫(yī)藥等方面。如電子產(chǎn)品中,LCD/OLED屏的涂覆處理、PC塑膠框粘結(jié)前處理,機(jī)殼及按鍵鈕等結(jié)構(gòu)件的表面噴油絲印、PCB表面的除膠除污清潔、鏡片膠水粘貼前的處理、電線、電纜噴碼前的處理,汽車工業(yè)車燈罩、剎車片、車門密封膠條的粘貼前的處理;機(jī)械行業(yè)金屬零部件的細(xì)微無害清潔處理,鏡片鍍涂前的處理,各種工業(yè)材料之間接合密封前的處理,三維物體表面的改性處理…等等。